光学校正装置与光学校正方法制造方法及图纸

一种光学校正装置与光学校正方法，光学校正装置包括至少一发光量测模块以及一定位校正模块。至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片，其中定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线。定位校正模块耦接至少一发光量测模块，以及接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案，并且对至少一校正图案进行量测与分析以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。

【技术实现步骤摘要】
光学校正装置与光学校正方法
本专利技术涉及一种光学校正装置，且特别涉及一种利用发光量测装置取得光学影像以进行校正的光学校正装置与光学校正方法。
技术介绍
一般而言，使用非接触式光学技术量测物体厚度有两种方法。第一种方法是使用一个量测模块，取得待测物体上、下表面的两组反射信号以计算出厚度信息。但是这种方法所计算出的量测结果容易受到待测物体的介质的影响，故不适合使用。第二种方法是使用两个量测模块，通过上、下两个量测模块对待测物体进行量测，再依据所回传的信号计算出厚度信息。举例而言，对于蓝宝石晶圆抛光后的厚度量测与晶圆厚度量测等，皆是利用此方法来进行量测。厚度量测的基准在于上、下两个量测模块需要量测到物体上相同的位置点，因此两个量测模块的量测定位校准对于厚度量测具有重大的影响。然而，就第二种方法而言，为了确保得到准确的厚度数值，则必须先通过位移机构来进行校正。一般现有的调整方式只单纯通过双轴移动平台来移动，并没有通过其他工具进行辅助，无法确保两个量测模块对位的准确性。因此，需要一种光学校正装置与光学校正方法，取得校正图案并提升量测模块的对位的准确性与便利性，准确取得量测模块的光点位置，提升光学量测的准确性。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的主要目的，在于提供一种光学校正装置与光学校正方法，使用至少一发光量测模块以及一定位校正模块，藉由取得与分析校正图案，校正光学装置的倾斜角度偏差与平面错位偏差，以提升量测模块的对位的准确性与便利性。本专利技术提供一种光学校正装置，包括至少一发光量测模块以及一定位校正模块。至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片，其中定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线。定位校正模块耦接至少一发光量测模块，以及接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案，并且对至少一校正图案进行量测与分析以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。本专利技术提供一种光学校正装置，包括一第一发光量测模块、一第二发光量测模块以及一定位校正模块。第一发光量测模块配置于定位校正片的一第一侧，第二发光量测模块配置于定位校正片的一第二侧，其中第二侧不同且相对于第一侧。当第一发光量测模块分别配置于第一高度以及第二高度时，第一发光量测模块分别发出第一入射光线与第二入射光线至定位校正片以分别产生第一校正图案与第二校正图案，定位校正模块量测与分析第一校正图案以及第二校正图案上的坐标位置以校正第一发光量测模块的倾斜角度偏差，并且当第二发光量测模块分别配置于一第三高度以及不同于第三高度的一第四高度时，第二发光量测模块分别发出一第三入射光线与一第四入射光线至定位校正片以分别产生一第三校正图案与一第四校正图案，第一发光量测模块停止发出第一入射光线与第二入射光线，定位校正模块量测与分析第三校正图案以及第四校正图案上的坐标位置以校正第二发光量测模块的倾斜角度偏差。当第一发光量测模块配置于一第五高度时，第一发光量测模块发出一第五入射光线至定位校正片以产生一第五校正图案，当第二发光量测模块配置于一第六高度时，第二发光量测模块发出一第六入射光线至定位校正片以产生一第六校正图案，第一发光量测模块停止发出第五入射光线，定位校正模块量测与分析第五校正图案以及第六校正图案上的坐标位置以校正第一发光量测模块与第二发光量测模块的平面错位偏差。本专利技术提供一种光学校正方法，包括藉由至少一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片；藉由定位校正片反射至少一入射光线而产生至少一反射光线；接收至少一反射光线以产生关于至少一反射光线的至少一校正图案；以及量测与分析至少一校正图案以校正至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。本专利技术提供一种光学校正方法，包括当第一发光量测模块分别配置于第一高度以及第二高度时，藉由第一发光量测模块分别发出第一入射光线与第二入射光线至定位校正片以分别产生第一校正图案与第二校正图案；藉由定位校正模块量测与分析第一校正图案以及第二校正图案上的坐标位置，并且校正第一发光量测模块的倾斜角度偏差；当第二发光量测模块分别配置于第三高度以及不同于第三高度的第四高度时，藉由第二发光量测模块分别发出第三入射光线与第四入射光线至定位校正片以分别产生第三校正图案与第四校正图案，并且第一发光量测模块停止发出第一入射光线与第二入射光线；藉由定位校正模块量测与分析第三校正图案以及第四校正图案上的坐标位置以校正第二发光量测模块的倾斜角度偏差；当第一发光量测模块配置于一第五高度时，藉由第一发光量测模块发出一第五入射光线至定位校正片以产生一第五校正图案；当第二发光量测模块配置于一第六高度时，藉由第二发光量测模块发出第六入射光线至定位校正片以产生第六校正图案，并且第一发光量测模块停止发出第五入射光线；藉由定位校正模块量测与分析第五校正图案以及第六校正图案上的坐标位置以校正第一发光量测模块与第二发光量测模块的平面错位偏差。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图1为根据本专利技术实施例所提供的光学校正装置的示意图；图2A为根据本专利技术实施例所提供的定位校正模块的示意图；图2B为根据本专利技术实施例所提供的另一种光学校正装置的示意图；图3A为根据本专利技术实施例所提供的发光量测模块的倾斜角度偏差的示意图；图3B为根据本专利技术实施例所提供的倾斜角度偏差的示意图；图4A为根据本专利技术实施例所提供的发光量测模块的平面错位偏差的示意图；图4B为根据本专利技术实施例所提供的平面错位偏差的示意图；图4C为根据本专利技术实施例所提供的另一种发光量测模块的平面错位偏差的示意图；图4D为根据本专利技术实施例所提供的另一种平面错位偏差的示意图；图5为根据本专利技术实施例所提供的光学校正方法的流程图；图6为根据本专利技术实施例所提供的另一种光学校正方法的流程图。其中，附图标记100：光学校正装置；110：发光量测模块；110A：第一发光量测模块；110B：第二发光量测模块；120：定位校正模块；122：光学组件；122A：分光镜；122B：三角反射镜；124：感应组件；126：成像组件；128：对焦调整组件；130：支撑组件；140：定位校正片；150：对焦定位机构；A1、A2、B1、B2：坐标位置。具体实施方式下面结合附图对本专利技术的结构原理和工作原理作具体的描述：以下将详细讨论本专利技术各种实施例的装置及使用方法。然而值得注意的是，本专利技术所提供的许多可行的专利技术概念可实施在各种特定范围中。这些特定实施例仅用于举例说明本专利技术的装置及使用方法，但非用于限定本专利技术的范围。图1为根据本专利技术实施例所提供的光学校正装置100的示意图。在一实施例中，光学校正装置100包括至少一发光量测模块110、一定位校正模块120、以及一对焦定位机构150。详细而言，发光量测模块110发出至少一入射光线至一定位校正片140(未显示)，然后定位校正片140反射至少一入射光线而产生至少一反射光线。定位校正模块120耦接发光量测模块110，以及接收至少一反射光线以产生关于该至少一反射光线的至少一校正图案。此外，定位校正模块120对该至少一校正图案进行量测与分析，并且校正发光量测模块110的倾斜角度偏差及/或水平位置偏差。值得注意的是，在此实施例中，光学校正装置100除了具有对焦本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学校正装置，其特征在于，包括：至少一发光量测模块，发出至少一入射光线至一定位校正片，其中该定位校正片反射该至少一入射光线而产生至少一反射光线；以及一定位校正模块，耦接该至少一发光量测模块，以及接收该至少一反射光线以产生关于该至少一反射光线的至少一校正图案，并且对该至少一校正图案进行量测与分析以校正该至少一发光量测模块的倾斜角度偏差及/或平面错位偏差。

【技术特征摘要】
2014.11.26 TW 1031409331.一种光学校正装置，其特征在于，包括：至少两个发光量测模块，每一发光量测模块发出至少一入射光线至一定位校正片，其中该定位校正片反射该至少一入射光线而产生至少一反射光线；以及至少两个定位校正模块，每个定位校正模块耦接一个发光量测模块，以及接收该至少一反射光线以产生关于该至少一反射光线的至少一校正图案，并且对该至少一校正图案进行量测与分析以校正该每一发光量测模块的倾斜角度偏差，其中当该每一发光量测模块配置于一第一高度时，该每一发光量测模块发出一第一入射光线至该定位校正片以产生一第一校正图案，并且当该每一发光量测模块配置于不同于该第一高度的一第二高度时，该每一发光量测模块发出一第二入射光线至该定位校正片以产生一第二校正图案，并且该定位校正模块量测与分析该第一校正图案以及该第二校正图案上的坐标位置以校正该每一发光量测模块的倾斜角度偏差。2.根据权利要求1所述的光学校正装置，其特征在于，该至少两个发光量测模块包括一第一发光量测模块以及一第二发光量测模块，并且该第一发光量测模块配置于该定位校正片的一第一侧，该第二发光量测模块配置于该定位校正片的一第二侧，其中该第二侧不同且相对于该第一侧。3.根据权利要求2所述的光学校正装置，其特征在于，当该第一发光量测模块配置于该第一高度时，该第一发光量测模块发出该第一入射光线至该定位校正片以产生该第一校正图案，当该第一发光量测模块配置于该第二高度时，该第一发光量测模块发出该第二入射光线至该定位校正片以产生该第二校正图案，该定位校正模块量测与分析该第一校正图案以及该第二校正图案上的坐标位置以校正该第一发光量测模块的倾斜角度偏差，并且当该第二发光量测模块配置于一第三高度时，该第二发光量测模块发出一第三入射光线至该定位校正片以产生一第三校正图案，当该第二发光量测模块配置于不同于该第三高度的一第四高度时，该第二发光量测模块发出一第四入射光线至该定位校正片以产生一第四校正图案，该第一发光量测模块停止发出该第一入射光线与该第二入射光线，该定位校正模块量测与分析该第三校正图案以及该第四校正图案上的坐标位置以校正该第二发光量测模块的倾斜角度偏差。4.根据权利要求3所述的光学校正装置，其特征在于，当该第一发光量测模块配置于一第五高度时，该第一发光量测模块发出一第五入射光线至该定位校正片以产生一第五校正图案，当该第二发光量测模块配置于一第六高度时，该第二发光量测模块发出一第六入射光线至该定位校正片以产生一第六校正图案，该第一发光量测模块停止发出该第五入射光线，该定位校正模块量测与分析该第五校正图案以及该第六校正图案上的坐标位置以校正该第一发光量测模块与该第二发光量测模块的一平面错位偏差。5.根据权利要求1所述的光学校正装置，其特征在于，该定位校正模块更包括：一光学组件，用以形成该至少一入射光线与该至少...

【专利技术属性】
技术研发人员：张奕威，力欧·马，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71