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中国电子科技集团公司第四十四研究所专利技术
中国电子科技集团公司第四十四研究所共有485项专利
一种能实现紫外光响应的硅器件制造技术
本发明公开了一种能实现紫外光响应的硅器件,它包括:钝化层、N型区、P型区,所述的N型区和P型区并排在钝化层一侧,且三者间互相连接;光子经过钝化层直接到达耗尽区,且仅保留SiO↓[2]作为唯一的钝化层避免了Si↓[3]N↓[4]对波长小于...
单孔结构的CCD输出节点制造技术
本发明公开了一种单孔结构的CCD输出节点,它包括:MOS管栅、MOS管栅接触孔、CCD输出二极管、CCD输出二极管接触孔、复位漏和复位栅,其特别之处在于:所述的MOS管栅和CCD输出二极管交叠,使MOS管栅接触孔和CCD输出二极管接触孔...
九象限激光探测器组件制造技术
本实用新型提供了一种九象限激光探测器组件,它包括:内外结构体、激光探测器芯片和放大器电路,其特征在于:所述的激光探测器芯片有九个象限,分别对应九路放大器电路;本实用新型制作的激光探测器芯片光敏分区达到了九个,探测光敏面直径最大可达15m...
单片式可见光/红外光双光谱焦平面探测器制造技术
本发明公开了一种单片式可见光/红外光双光谱焦平面探测器,它包括:可见光像元、可见光像元收集二极管、红外感光像元、红外感光像元收集二极管、四相CCD转移栅上的电极V1、V2、V3、V4,各个电极按上述顺序从上至下排列并构成CCD信道;可见...
抗辐射加固电荷耦合器件非光敏区保护结构制造技术
本实用新型涉及一种抗辐射加固电荷耦合器件非光敏区保护结构。在电荷耦合器件的存储区及水平区的表面设置有铟保护层。本实用新型的优点是:电荷耦合器件的抗辐射能力提高了30%。
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