本申请公开了一种用于评估半导体晶圆的集成式计量系统，其包括：主体，可具有后侧部和前侧部，前侧部限定主体的前边界；一个或多个可拆卸支撑单元，能拆卸地耦接到主体并且在延伸到前边界的外部的同时支撑主体；至少一个辅助支撑单元，被构造成在没有一个...

提出了一种测量系统，被配置用于与加工设备集成，用于对结构进行光学测量。该测量系统包括：支撑组件，用于将被测量的结构保持在测量平面中，支撑组件被配置且能操作为在与测量平面平行的平面内旋转并且在测量平面中沿着第一横向轴移动；光学系统，限定法...

本申请公开了一种用于测量的系统。测量系统配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将待测结构保持在测量平面中，使结构沿着至少一个第一横轴移动，并且用于通过z轴载物台改变测量平面的z轴位置；其中，z...

提供一种测量图案化结构的一个或多个特征时使用的方法和系统。该方法利用第一测量数据和第二测量数据的处理，其中，第一测量数据指示在使用所选择的至少一种光学测量方案的测量下从图案化结构获得的至少一个拉曼光谱，所选择的至少一种光学测量方案各自具...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将待测结构保持在测量平面中，使结构沿着至少一个第一横轴移动，并且用于通过z轴载物台改变测量平面的z轴位置；其中，z轴载物台包括两...

呈现了在对图案化样本的计量测量中使用的测量系统。该系统包括：至少一个光源设备，被配置为生成宽带光，至少一个检测设备，被配置为提供检测光的光谱信息，以及光学系统。光学系统至少包括倾斜通道系统，其用于将光源生成的入射光沿着倾斜照明通道引导到...

用于定义多晶材料参数的偏振拉曼光谱系统，该系统包括偏振拉曼光谱仪、用于将样本定位在不同位置的计算机控制的样本台、以及包括处理器和相关存储器的计算机。偏振拉曼光谱仪从样本上多个位置的小尺寸斑点或从样本上的细长线形点生成信号，并且处理器分析...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将待测结构保持在测量平面中，使结构沿着至少一个第一横轴移动，并且用于通过z轴载物台改变测量平面的z轴位置；其中，z轴载物台包括两...

本申请公开了一种用于评估半导体晶圆的集成式计量系统，其包括：主体，该主体可具有后侧部和前侧部，前侧部限定主体的前边界；一个或多个可拆卸支撑单元，该可拆卸支撑单元能拆卸地耦接到主体并且在延伸到前边界的外部的同时支撑主体；以及至少一个辅助支...

本申请公开了一种用于评估半导体晶圆的集成式计量系统，其包括主体，主体包括光学头部和光源；其中，光源定位在主体的下部分处，并且其中，光学头部定位在主体的上部分处，并且其中，光学头部经由光学路径光学地耦接到光源，光学路径包括光学线缆。本申请...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将处于测量中的结构保持在测量平面中，支撑组件被配置为能操作以沿着第一横轴移动；限定照明和收集光通道的光学系统，其中，照明和收集光...

本申请公开了一种用于评估半导体晶圆的集成式计量系统，其包括：主体，具有后侧部和前侧部，前侧部限定主体的前边界；键盘，能移动地耦接到主体；其中，键盘被构造成在多个位置之间移动，多个位置包括第一位置和第二位置；其中，当定位在第一位置处时，键...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将处于测量中的结构保持在测量平面中，并且用于至少沿着第一横轴移动结构；支架组件，包括载物台；限定照明和收集光通道的光学系统，其中...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将待测结构保持在测量平面中，使结构沿着至少一个第一横轴移动，并且用于通过z轴载物台改变测量平面的z轴位置；其中，z轴载物台包括两...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：支撑组件，用于将处于测量中的结构保持在测量平面中；支架组件；限定照明和收集光通道的光学系统；光学系统包括光源、检测器和光学头；其中，支架组件被...

一种半导体度量系统包括：光谱获取工具，用于使用第一量测协议收集在第一半导体晶圆靶上的基线散射量度光谱，及对于光谱可变性的各种源，收集在第二半导体晶圆靶上的散射量度光谱的可变性集合，前述可变性集合体现前述光谱可变性；参考度量工具，用于使用...

本申请公开了一种测量系统，配置为与处理设备集成，处理设备用于对结构进行光学测量，测量系统包括：密封的隔室；支撑组件，用于在测量系统测量结构时将结构保持在隔室内；和至少一个接口，被配置为将气体或真空的流从处理设备输送到结构的附近，结构位于...

公开了一种测试站和方法，用于预测E‑测试结构(模具结构)和/或装置性能。测试站包含E‑测试结构和E‑测试结构附近的OCD兼容的多个结构，以允许光学散射测量(OCD)。通过选自(a)叠加类型修改技术、(b)仿制类型修改技术、(c)特殊目标...

本实用新型提供了一种晶片对准组件及晶片处理系统，晶片对准组件用于在晶片处理系统中使用并被构造为控制晶片在由多个晶片支撑元件限定的保持位置中的正确位置，晶片对准组件包括：晶片推动机构，其在晶片的平面中具有预定的操作运动范围，使得当晶片处于...

本申请涉及用于确定结构中的兴趣区域的参数的方法和系统。该方法包括：在结构上进行至少两个光学测量，每一个光学测量包括利用尺寸大于兴趣区域的照明点照射兴趣区域，检测从照明点反射的反射光场，并且生成与所检测的反射光场对应的测量数据，测量数据表...