【技术实现步骤摘要】
用于测量的系统本申请是申请号为201922021083.3的中国专利申请的分案申请。
本申请属于测量
，并且涉及一种用于集成测量/监控系统的光学测量系统，该光学测量系统在半导体工业中特别有用。
技术介绍
半导体装置的制造包括要求在生产线上进行的晶片在连续的制造步骤之间被测量的多阶段过程。半导体工业中尺寸缩小的当前趋势以及半导体制造过程的动态性，增加了对精确诊断工具的需求，该诊断工具能够为诸如闭环控制和前馈控制的短时间响应反馈环路提供接近实时的测量。这样的严格要求不能通过不提供实时响应的离线(“独立”)测量系统来获得，并且不能通过诸如端点检测装置的现场检测装置来提供，因为它们的性能不够精确。已经开发了集成测量/监控技术，在半导体制造厂的生产线内提供具有完整计量能力的监控工具的物理实现。集成测量系统是物理上安装在处理设备内部或附接到处理设备并专用于具体过程的系统。集成测量系统要从几个方面考虑，并满足具体要求，以便可行。这样的要求尤其包括以下内容：小的覆盖区，即集成测量系统应具有尽可能小的覆盖区，以便...
【技术保护点】
1.一种用于测量的系统，其特征在于，包括：/n处理设备；/n设备前端模块，所述设备前端模块与所述处理设备相关联；以及/n测量系统，所述测量系统用于对结构进行光学测量；/n其中，所述测量系统与所述设备前端模块连接，所述测量系统包括：/n用于将所述结构保持在测量平面中的支撑组件，所述支撑组件被配置为沿第一横轴移动并且旋转移动；/n光学系统，所述光学系统限定照明和收集光通道，其中，所述照明和收集光通道中的至少一个被配置为用于执行所述结构的光谱测量的倾斜光通道，其中，所述测量平面垂直于所述第一横轴；以及/n控制单元，所述控制单元包括测量模式控制器和导航移动控制器，其中，所述导航移动...
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
20181119 IL 2631061.一种用于测量的系统，其特征在于，包括：
处理设备；
设备前端模块，所述设备前端模块与所述处理设备相关联；以及
测量系统，所述测量系统用于对结构进行光学测量；
其中，所述测量系统与所述设备前端模块连接，所述测量系统包括：
用于将所述结构保持在测量平面中的支撑组件，所述支撑组件被配置为沿第一横轴移动并且旋转移动；
光学系统，所述光学系统限定照明和收集光通道，其中，所述照明和收集光通道中的至少一个被配置为用于执行所述结构的光谱测量的倾斜光通道，其中，所述测量平面垂直于所述第一横轴；以及
控制单元，所述控制单元包括测量模式控制器和导航移动控制器，其中，所述导航移动控制器被配置为操作驱动器，所述驱动器分别控制所述支撑组件的旋转移动和所述支撑组件沿所述第一横轴的移动。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统经由所述设备前端模块的装载端口连接到所述设备前端模块。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述装载端口位于所述设备前端模块的侧面。
4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述装载端口位于所述设备前端模块的前方。
5.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述设备前端模块包括额外的装载端口。
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统被配置为执行光学临界尺寸测量。
7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统与所述设备前端模块的接口是密封的。
8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统的晶片隔室是密封的。
9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统被配置为通过使用在所述处理设备中使用的气体供应，在所述测量平面附近维持一定的环境。
10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述气体供应是N2气体供应。
11.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述气体供应是CO2气体供应。
12.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述气体供应被配置为提供真空。
13.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述测量系统被配置为从所述设备前端模块接收气体。
14.根据权利要求13所述的系统，其特征在于，所述气体是由N2气体供应源供应的。
技术研发人员：埃拉德·多坦，莫舍·万霍特斯克尔，希莫·亚洛夫，瓦莱里·戴希，罗伊·林格尔，本亚明·舒尔曼，纽希·巴尔·欧恩，沙哈尔·巴桑，
申请(专利权)人：诺威量测设备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：以色列;IL
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