本发明公开了一种电子级混酸体系的组分浓度检测方法，混酸体系为包含氢氟酸的已知酸组分的3

本实用新型公开了化学品自动灌装装置，包括灌装支撑架，灌装支撑架的中部设有用于输送灌装瓶的输送台板，灌装支撑架的上部的侧架之间滑动设置固定横杆，所述固定横杆上等距固定设置若干个灌装头，固定横杆上的灌装头的间距与输送台板上的灌装瓶瓶口之间间...

本实用新型公开了一种氟化铵腐蚀液的混合生产系统，包括氟化铵罐、氢氟酸罐、混合罐和表面活性剂罐，氟化铵罐、氢氟酸罐、混合罐的出液口均与气动泵的入口相连，气动泵的出口设置分支管路，第一分支管路与混合罐的进液口相连，第二分支管路上依次设置第一...

本实用新型公开了一种NaOH溶液的稀释制备系统，包括依次连接的高浓度NaOH溶液储罐、第一磁力泵、第一流量计、静态混合器和低浓度NaOH溶液储罐；所述静态混合器的入口前端还并联设有去离子水供应管路，所述去离子水供应管路上依次设置去离子水...

本实用新型公开了一种集合移动式溶液混配分装系统，包括左腔室、右腔室和背腔室，所述左腔室和所述右腔室侧面连接，所述背腔室分别与左腔室、右腔室的背面连接；所述左腔室的顶面设有进料通孔，进料管路穿过进料通孔分别与位于左腔室内的至少两个原料储罐...

本实用新型公开了一种自动加酸或碱液的废气洗涤塔系统，包括废气洗涤塔，废气洗涤塔的下端一体设有洗涤液箱，所述洗涤液箱通过进液管路与储存酸/碱液的储罐相连，进液管路上设有第一气动阀，所述洗涤液箱上还并联设有pH检测管路，pH检测管路上设置p...

本实用新型揭示了一种双氧水除杂用离子交换柱，所述交换柱包括柱体，所述柱体的两端均连接有盖体，所述盖体上均固定连接有液体进出件，所述柱体与一对所述盖体之间均设置有过滤组件，所述柱体内填充有吸附剂，所述吸附剂位于一对所述过滤组件之间，所述柱...

本实用新型公开了一种混床离子交换设备，用于对异丙醇的杂质离子进行处理，包括：罐体、离子交换树脂；所述罐体的顶部设置有进料口、所述罐体的底部设置有出料口；所述离子交换树脂位于所述罐体内部，并设置在所述进料口和所述出料口之间，所述离子交换树...

本实用新型公开了一种旋转负压式分子筛干燥设备，包括：原料除湿组件、干燥组件、驱动组件和负压组件；所述原料除湿组件和所述干燥组件通过第一管道连通，所述第一管道延伸至所述原料除湿组件的底部；所述干燥组件包括至少两个分子筛干燥筒，两个所述分子...

本实用新型公开了一种集成组合移动式上料系统，包括上料站，所述上料站包括安装台架、进料集成箱和物料处理箱，所述进料集成箱与安装台架侧面固定连接，物料处理箱与安装台架顶面固定连接，安装台架另一侧面设有连接另一上料站安装台架的卡扣锁紧装置；进...

本实用新型公开了一种硝酸尾气吸收系统，硝酸尾气与洗涤塔的进气口连通；所述洗涤塔顶部设有喷淋装置，洗涤塔底部设有硝酸回收釜，硝酸回收釜的出料口与离心泵的进液口通过输液管道连通，所述输液管道上还设有实时浓度检测装置；离心泵的出液口与三通一端...

本实用新型公开了一种高纯硫酸生产系统，包括发烟硫酸原料槽以及与发烟硫酸原料槽连通的蒸发器，蒸发器的气相出口与纯化塔底端连通，纯化塔的气相出口、纯水源和半成品冷却槽与吸收塔连通，半成品冷却槽与吸收塔之间设置有闭合的硫酸半成品回路；纯化塔中...

本发明公开了一种吨桶清洗设备，应用于化学品吨桶的清洗，包括：机架、传送组件和清洗组件；机架包括位于机架端部的传送区和位于机架中部的清洗区；传送组件设置在传送区，用于将吨桶运输至清洗区清洗，并将清洗完成的吨桶运出；清洗组件设置在清洗区，用...

本发明公开了一种旋转负压式分子筛干燥设备，包括：原料除湿组件、干燥组件、驱动组件和负压组件；所述原料除湿组件和所述干燥组件通过第一管道连通，所述第一管道延伸至所述原料除湿组件的底部；所述干燥组件包括至少两个分子筛干燥筒，两个所述分子筛干...

本发明公开了一种混床离子交换设备，用于对异丙醇的杂质离子进行处理，包括：罐体、离子交换树脂；所述罐体的顶部设置有进料口、所述罐体的底部设置有出料口；所述离子交换树脂位于所述罐体内部，并设置在所述进料口和所述出料口之间，所述离子交换树脂用...

本发明公开了一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，所述工艺包括以下步骤：第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO

本发明公开了一种高纯硫酸的生产工艺，包括以下步骤：S1：发烟硫酸导入蒸发器中加热生成三氧化硫气体；S2：三氧化硫气体导入除雾器中与纯化塔中的冷却盘管换热除杂，得冷凝液相和气相三氧化硫，气相三氧化硫经过除雾，得纯化的三氧化硫气体；S3：循...

本发明公开了一种铝栅刻开区硅渣清除组合物，按重量百分比计，其组成为：磷酸55～80％、醋酸3～25％、硝酸0.5～6％、氟离子源1.5～15％、缓蚀剂0～5％和余量水，氟离子源中包含1～10％的氟硼酸和/或氟硼酸铵。该铝栅刻开区硅渣清除...

本发明公开了一种具有活动盖板的湿蚀刻设备，包括蚀刻箱体，蚀刻箱体的内腔中由下至上依次设置有工件传送组件、喷淋组件，喷淋组件与蚀刻箱体顶面之间设置有活动盖板组件，活动盖板组件包括两平行的输送辊、张紧设置在输送辊外的输送带、位于蚀刻箱体外且...

本发明公开了一种光刻胶剥离试验一体机，包括柜体、设置在柜体内腔底部的基板承载组件、处理液喷射组件、底出液口、与处理液喷射组件和底出液口连通的处理液储槽或处理液源；柜体的侧壁上设置有敞口的出液槽，出液槽的顶端铰接设置有翻转导流板，出液槽的...