一种酸性铜蚀刻液的生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，所述工艺包括以下步骤：第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO

A production process of acid copper etching solution

【技术实现步骤摘要】
一种酸性铜蚀刻液的生产工艺
本专利技术涉及铜蚀刻液
，具体涉及一种酸性铜蚀刻液的生产工艺。
技术介绍
高精细芯片和显示集成电路主要采用铜制程，其光刻工艺中形成铜膜层结构所需用的铜刻蚀液中最主要的为过氧化氢系铜刻蚀液。过氧化氢系铜蚀刻液较其他铜刻蚀液体系(如三氯化铁体系，过硫酸铵体系)具有不引人其他金属离子在铜层表面或线路体系中，产物亲和、友好、环境污染少，刻蚀效率高且使用寿命较长的特点。大部分过氧化氢系铜刻蚀液包括参与氧化的过氧化氢组分、参与溶解的无机酸/有机酸组分，以及部分铜缓蚀剂等各类添加三个部分。由于铜蚀刻液中各物质的反应为放热反应，体系中又含有过氧化氢在制备铜蚀刻液的生产过程中需要保证生产安全。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种铜蚀刻液大规模量产的生产工艺，该生产工艺温控严格，生产过程中安全性高。为实现上述目的，本专利技术的技术方案是设计一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，所述工艺包括以下步骤：第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO3、四甲基氢氧化铵、H2O2分别投入对应的原料罐，备用；第三步：根据混酸配制表算出各个原料的添加量，按照纯水→亚氨基二乙酸→氢氟酸→HNO3→四甲基氢氧化铵→乙醇酸的顺序依次将原料加入调配罐，将上述混料充分搅拌，搅拌时间为3～5h；第四步：在第三步的混料中再添加H2O2，继续搅拌混匀，搅拌时间为3～5h，用磁力泵将混合液通过过滤器循环过滤。作为优选的技术方案，所述磁力泵出口压力≤0.45MPa，过滤器入口压力≤0.4MPa。根据制备铜蚀刻液的原料确定磁力泵的出口压力和过滤器的入口压力，包装原料可以被充分过滤。作为优选的技术方案，所述调配罐内的温度设定在30～35℃。调配罐的温度不能超过35℃，由于过氧化氢的密度随温度的升高而减小，因此保证交底的反应温度有助于保证原料体系的稳定作为优选的技术方案，所述过滤器的微滤膜孔径为0.5～0.2μm。作为优选的技术方案，第三步中各种原料在0.03～0.07kg/cm2压力下进行，调配罐内填充氮气，搅拌速度为30～50r/min。作为优选的技术方案，原料罐和调配罐最大拼配量不超过罐容积的80％。本专利技术的优点和有益效果在于：本专利技术在制备酸性铜蚀刻液的过程中，用低温纯水(10℃)替代常温纯水(25℃)，将低温纯水加入反应体系中，降低反应体系的反应温度，提高反应体系的稳定性。当体系中加入过氧化氢后有助于提高过氧化氢的稳定性，避免由于过氧化氢分解而引发的爆炸，提高生产的安全性。具体实施方式下面结合实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，而不能以此来限制本专利技术的保护范围。一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，所述工艺包括以下步骤：第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；纯水罐中设有通过电路控制的电磁阀，当纯水温度高于10℃时，电磁阀无法打开。第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO3、四甲基氢氧化铵、H2O2分别投入对应的原料罐，备用。亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸需要稀释后使用，HNO3、四甲基氢氧化铵、H2O2无需调配可直接用于制备蚀刻液。第三步：根据混酸配制表算出各个原料的添加量，按照纯水→亚氨基二乙酸→氢氟酸→HNO3→四甲基氢氧化铵→乙醇酸的顺序依次将原料加入调配罐，将上述混料充分搅拌，搅拌时间为3～5h。第四步：在第三步的混料中再添加H2O2，继续搅拌混匀，搅拌时间为3～5h，用磁力泵将混合液通过过滤器循环过滤。所述磁力泵出口压力≤0.45MPa，过滤器入口压力≤0.4MPa。根据制备铜蚀刻液的原料确定磁力泵的出口压力和过滤器的入口压力，包装原料可以被充分过滤。所述调配罐内的温度设定在30～35℃。调配罐的温度不能超过35℃，由于过氧化氢的密度随温度的升高而减小，因此保证交底的反应温度有助于保证原料体系的稳定所述过滤器的微滤膜孔径为0.5～0.2μm。第三步中各种原料在0.03～0.07kg/cm2压力下进行，调配罐内填充氮气，搅拌速度为30～50r/min。原料罐和调配罐最大拼配量不超过罐容积的80％。以上所述仅是本专利技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，其特征在于，所述工艺包括以下步骤：/n第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；/n第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO

【技术特征摘要】
1.一种酸性铜蚀刻液的生产工艺，其特征在于，所述工艺包括以下步骤：
第一步：将纯水进行低温处理，使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用；
第二步：配制和准备原料，将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中，经过过滤器循环过滤，备用；将HNO3、四甲基氢氧化铵、H2O2分别投入对应的原料罐，备用；
第三步：根据混酸配制表算出各个原料的添加量，按照纯水→亚氨基二乙酸→氢氟酸→HNO3→四甲基氢氧化铵→乙醇酸的顺序依次将原料加入调配罐，将上述混料充分搅拌，搅拌时间为3～5h；
第四步：在第三步的混料中再添加H2O2，继续搅拌混匀，搅拌时间为3～5h，用磁力泵将混合液通过过滤器循环过滤。


2.根据权利要求1所述的一种酸性铜蚀刻液...

【专利技术属性】
技术研发人员：浦陈龙，顾维忠，顾洪卫，朱永刚，顾维达，
申请(专利权)人：江阴江化微电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32