感光性碱可溶有机硅树脂组合物制造技术

技术编号:9995045 阅读:124 留言:0更新日期:2014-05-02 19:11
本发明专利技术提供一种感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其含有:一分子内具有羧基或二羧酸酐基的碱可溶性有机硅树脂(A);酸值为10~200mgKOH/g的碱可溶性树脂(B);和光聚合引发剂(C),该(A)成分或(B)成分具有光聚合性不饱和双键基团、或者该感光性碱可溶有机硅树脂组合物还含有具有光聚合性不饱和双键的化合物(D)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其含有:一分子内具有羧基或二羧酸酐基的碱可溶性有机硅树脂(A);酸值为10~200mgKOH/g的碱可溶性树脂(B);和光聚合引发剂(C),该(A)成分或(B)成分具有光聚合性不饱和双键基团、或者该感光性碱可溶有机硅树脂组合物还含有具有光聚合性不饱和双键的化合物(D)。【专利说明】感光性碱可溶有机硅树脂组合物
本专利技术涉及在显示装置中使用的绝缘材料、以及半导体装置的表面保护膜、层间绝缘膜、α射线屏蔽膜等的形成、以及在搭载有图像传感器或微型电机、或者微型致动器的半导体装置等中使用的树脂组合物,以及使用该树脂组合物制造的显示装置等。
技术介绍
在电子部件的绝缘材料、以及半导体装置的表面保护膜、层间绝缘膜及α射线屏蔽膜等的用途中,能够广泛使用兼具优异的耐热性、电特性和机械特性的聚酰亚胺树脂。该树脂具有下述特征:通常以感光性聚酰亚胺前体组合物的形态提供,将其涂布于基材,实施预烘,介由所希望的图案掩模照射活性光线(曝光),进行显影,实施热固化处理,从而可以容易地形成由耐热性的聚酰亚胺树脂形成的固化浮雕图案(例如参照专利文献I)。另一方面,具有上述优异特性的聚酰亚胺由于在500nm?400nm附近存在来自聚酰亚胺环的吸収,因此不适应显示装置或光学系材料这种需要高透明性的用途。另外,主要从构成元素的材质或结构设计上的理由考虑,对能够在更低的温度下进行热固化处理的材料的要求提高。然而,现有的聚酰亚胺树脂前体组合物的情况下,降低固化处理温度时,不能完成热酰亚胺化,由于各种固化膜物性降低,因此固化处理温度的下限为300°C前后。另外,在专利文献2中公开了能够低温固化的感光性硅氧烷系材料,但是仅专利文献2公开的技术时,进行微细加工时不能用碱显影液进行显影。利用碱显影液进行的图案形成法与使用有机溶剂进行显影的情况相比,具有对环境的负荷低、并且成本受到抑制的优点,因此强烈期望能够进行碱显影和低温固化的感光性树脂。另外,在专利文献3中,公开了能够利用碱显影进行的图案形成、以及低温固化的感光性硅氧烷系材料。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平6-342211号公报专利文献2:日本特开2007-277332号公报专利文献3:国际公开第2010/061744号小册子
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而,使用专利文献3公开的技术时可知,作为显示装置或光学材料使用的厚膜的耐热透明性、耐热裂纹性和冷热冲击试验耐性还有改善的余地。进而,该专利文献3公开的材料由于在大气下曝光时受到氧气导致的表面固化阻碍的影响、表面固化性低,因此碱显影后的残膜率(残膜率指的是X 100(%))降低,难以进行厚膜的稳定的膜形成。因此,显示装置或光学系材料这种需要高透明性的领域中要求的、低温固化性优异、并且满足厚膜的耐热透明性、耐热裂纹性、冷热冲击试验耐性及高残膜率这些物性的感光性成膜材料尚未发现。因此,本专利技术的课题在于,提供能够进行显示装置或光学系材料这种需要高透明性的领域中要求的、利用碱显影进行的图案形成、低温固化性优异、并且满足厚膜的耐热透明性、耐热裂纹性、冷热冲击试验耐性及高残膜率这些物性的新型感光性碱可溶有机硅树脂组合物。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决前述课题,对碱可溶性有机硅树脂的分子结构、特性等进行了深入地研究,结果发现,通过含有特定的碱可溶性有机硅树脂、特定的碱可溶性树脂和光聚合引发剂的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,能够解决上述课题,从而完成了本专利技术。即,本专利技术如下所述。 一种感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其含有:一分子内具有羧基或二羧酸酐基的碱可溶性有机硅树脂(A);酸值为10mgK0H/g?200mgK0H/g的碱可溶性树脂(B);和光聚合引发剂(C),该(A)成分或(B)成分具有光聚合性不饱和双键基团、或者该感光性碱可溶有机硅树脂组合物还含有具有光聚合性不饱和双键的化合物(D)。根据所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂(A)在一分子内还具有光聚合性不饱和双键基团。根据权利要求或所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂(A)是通过下述通式(I)所示的硅烷化合物(A-1)与下述通式(II)所示的娃烧化合物(A-2)的反应得到的,R1R2aSi (R3) 3-a (I)通式(I)中,R1是含有羧基或二羧酸酐基的碳原子数为4?20的一价有机基团,R2是甲基,R3是选自由甲氧基、乙氧基、丙氧基和异丙氧基组成的组中的至少一种一价有机基团、羟基、或氯(Cl),并且a是O或I的整数,R4bR5cSi (R3)4_b_c (II)通式(II)中,R4和R5是含有光聚合性不饱和双键基团或聚合性环状醚键合基团的碳原子数为2?20的基团、碳原子数为6?20的芳基、碳原子数为2?20的烷基芳基、任选被巯基或氨基取代的碳原子数为I?20的烷基、碳原子数为5?20的环烷基、或者含有羧基或二羧酸酐基的碳原子数为4?20的基团,R4和R5任选相同或不同,进而任选介由共价键相互连接,R3是选自由甲氧基、乙氧基、丙氧基和异丙氧基组成的组中的至少一种一价有机基团、羟基、或Cl,b是选自O?2中的整数,c是O或I的整数,并且b + c不会超过2。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂(A)是通过使前述硅烷化合物(A-1)、前述硅烷化合物(A-2)和下述通式(III)所示的硅烷二醇化合物(A-3)在催化剂的存在下反应来得到的,R62Si(OH)2 (III)通式(III)中,R6是碳原子数为6?20的芳基、碳原子数为2?20的烷基芳基、任选被巯基或氨基取代的碳原子数为I?20的烷基、或者碳原子数为5?20的环烷基,任选相同或不同,并且任选介由共价键相互连接。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂(A)在一分子内还具有聚合性环状醚基。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性树脂(B)在一分子内具有光聚合性不饱和双键基团。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性树脂(B)在一分子内具有光聚合性不饱和双键基团、以及羧基或二羧酸酐基。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机娃树脂组合物,其中,前述碱可溶性树脂(B)为选自下组中的至少一种聚合物:由聚合性不饱和双键的反应物构成的乙烯基聚合物、由环氧基与羟基的加成反应物构成的环氧聚合物、由酚类与甲醛的反应物构成的芳香族亚甲基聚合物、由二醇与二异氰酸酯的反应物构成的氨基甲酸酯聚合物、以及由二羧酸与二环氧化物的反应物构成的酯聚合物。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂㈧的酸值(mgKOH/g)与前述碱可溶性树脂⑶的酸值(mgKOH/g)之t匕、即酸值(A)/酸值⑶处于0.1以上且5.0以下的范围内。根据?中任一项所述的感光性碱可溶有机硅树脂组合物,其中,前述碱可溶性有机硅树脂(A)和前述碱可溶性树脂(B)这两者具有光聚合性不饱和双键基团,并且前述感光性碱可溶有机硅树脂组合物含有前述具有光聚合性不饱和双键的化合物Φ)。根据?中任一项所述的感光性碱可本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:斋藤大和岩间珠莉胜又彻佐佐木由香木村正志松田治美
申请(专利权)人:旭化成电子材料株式会社
类型:
国别省市:

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