【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工
，尤其涉及一种碱可溶树脂及其制备方法、光致抗蚀剂。
技术介绍
一般光致抗蚀剂的主要成分包括碱可溶树脂、光活性化合物、光引发剂、颜料分散液、有机溶剂以及其它添加剂。由于光致抗蚀剂是将颜料分散在树脂溶液中，当树脂与颜料的兼容性不佳时，通常会产生下面的问题(1)储存中因颜料的再凝聚造成光致抗蚀剂失效；(2)显影过程中造成非曝光区部分无法完全去除而造成残留；(3)由于涂膜不均，膜的表面比较粗糙。 环糊精由D-吡喃葡萄糖单元通过α-1，4糖苷键首尾相连形成，根据其中葡萄糖单元数目的不同而拥有不同的空腔尺寸，其中最为常见的是分别含有6、7和8个葡萄糖单元的α-、β-和Υ-环糊精。环糊精由于具有疏水的空腔和亲水的外壁，其自身的特殊结构使其能够键合各种客体分子形成超分子包结配合物。环糊精由于易于制备，价格低廉，并且其环的空腔尺寸和芳香基团匹配，应用最为广泛。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种修饰有β -环糊精或β -环糊精衍生物的碱可溶树脂，该碱可溶树脂和颜料的兼容性大大增强。本专利技术所提供的碱可溶树脂，是修饰有β -环糊精或β -环糊精衍...
【技术保护点】
一种碱可溶树脂，其特征在于，是修饰有β？环糊精或β？环糊精衍生物的碱可溶树脂，所述β？环糊精或β？环糊精衍生物通过酯键或酰胺键与碱可溶树脂结合。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王雪岚，薛建设，刘宸，陆金波，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。