【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种用于真空镀膜的钨舟或钼舟，包括一体结构的舟皿本体，所述舟皿本体包括内腔为四棱锥形的槽体，所述槽体中两个相对的侧板的顶端均设有阶梯状的延伸板，另外两个相对的侧板的两端的内表面均呈波纹状。本技术中，在舟皿本体的槽体中两个相对侧板的两端设置的波纹状的内表面，能够避免其中盛放的熔融态的蒸发源的上液面形成弧形面，使槽体中盛放的熔融态的蒸发源上表面铺展更均匀、平整，防止所形成的镀膜的厚度不均匀。【专利说明】一种用于真空镀膜的钨舟或钼舟
本技术涉及真空镀膜领域，具体的说是一种用于真空镀膜的钨舟或钥舟。
技术介绍
钨、钥熔点高，电性能好，抗热及抗腐蚀性能优越，被广泛应用于冶金，电子、宇航、半导体、电光源和化工等行业。选用高纯度的钨材或钥材，用先进的生产自动线生产出的钨舟或钥舟作为特殊而有效的舟皿，被广泛的用于真空镀膜行业的金属蒸镀。而在真空镀膜过程中，需要很高温度才会使金属原料从固体状态蒸发汽化。钨舟或钥舟应用于真空镀膜中，是将钨舟或钥舟安装在两个电极中间，在钨舟或钥舟的中央加上蒸发源，再缓缓给电极通电，电流通过钨舟或钥舟，钨舟或钥舟通电发热，使高熔点的钨舟或钥舟产生热量，再热传导给镀膜材料，当钨舟或钥舟的热量高于镀膜材料熔点的时候，材料就蒸发，此方法操作方便，结构简单，成本低廉。但是现有的钨舟或钥舟中熔化的金属原料，其熔融状态的蒸发源上液面为拱起的弧面，在真空镀膜时，易造成所形成的镀膜的厚度不均匀。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是克服现有的钨舟或钥舟在薄膜制备中，易造成所形成的镀膜的厚度不均匀的问题，提供一种用于真空镀膜的钨舟或钥舟。本技术为解...
【技术保护点】
一种用于真空镀膜的钨舟或钼舟，包括一体结构的舟皿本体，其特征在于：所述舟皿本体包括内腔为四棱锥形的槽体（1），所述槽体（1）中两个相对的侧板的顶端均设有阶梯状的延伸板（2），另外两个相对的侧板的两端的内表面均呈波纹状。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王小淼，张玉贵，
申请(专利权)人：洛阳爱科麦钨钼制品有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。