一种清除液体中气泡的结构，其特征在于：包括内部带有分隔桶（2）的缓存罐（8)、接负压管（5)、进液管（11）及出液管（13），其中缓存罐（8）的底部设有出液口（1)、上部设有排气口（7)、罐壁上开有进液口（9），出液口（1）位于分隔桶（2）内；所述出液口（1)、排气口（7）及进液口（9）分别连通有出液管（13)、接负压管（5）及进液管（11），各管路上分别安装有与控制装置相连的阀体；所述缓存罐（8）的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器（4）及下位传感器（3）。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及芯片制造用基片加工过程中化学品供应的管路结构，具体地说是一种清除液体中气泡的结构，包括内部带有分隔桶的缓存罐、接负压管、进液管及出液管，其中缓存罐的底部设有出液口、上部设有排气口、罐壁上开有进液口，出液口位于分隔桶内；所述出液口、排气口及进液口分别连通有出液管、接负压管及进液管，各管路上分别安装有与控制装置相连的阀体；所述缓存罐的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器及下位传感器。本专利技术通过不同时间开闭不同阀门及带有分隔桶的缓存罐结构实现了低成本即可清除气泡，结构简单，分隔桶能很好地让气泡和液体分离。【专利说明】一种清除液体中气泡的结构
本专利技术涉及芯片制造用基片加工过程中化学品供应的管路结构，具体地说是一种清除液体中气泡的结构。
技术介绍
在芯片制造用基片加工过程中有很多涂胶和显影的步骤，供应显影液的方法一般使用压力罐供应，供应过程中由于液体与气压接触，气体会溶解到液体中；当压力降低后，溶解到液体中的气体就会析出，聚集成气泡，从而影响正常的工艺加工。行业除气泡的解决方法有使用半透膜除气泡，但由于半透膜很难制造，此类除气泡装置售价都很贵，一般客户承受不了。
技术实现思路
为了在较高性价比的要求下实现气泡清除，本专利技术的目的在于提供一种清除液体中气泡的结构。该清除液体中气泡的结构实现了不用花费很多钱就能清除气泡的功能。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的:本专利技术包括内部带有分隔桶的缓存罐、接负压管、进液管及出液管，其中缓存罐的底部设有出液口、上部设有排气口、罐壁上开有进液口，出液口位于分隔桶内；所述出液口、排气口及进液口分别连通有出液管、接负压管及进液管，各管路上分别安装有与控制装置相连的阀体；所述缓存罐的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器及下位传感器。其中:所述进液口偏心设置在缓存罐的罐壁上，由进液口进入到缓存罐内的液体做旋转运动；所述与进液口连通的进液管与竖直平面相平行，或倾斜于竖直平面；所述分隔桶安装在缓存罐的底部，分隔桶的轴向中心线与出液口的轴向中心线及缓存罐的轴向中心线共线；所述上位传感器及下位传感器上下平行设置，均位于分隔桶之上；所述接负压管上安装有排气阀，该排气阀为两位两通阀；所述进液管上安装有进液阀，该进液阀为两位两通阀；所述出液管上安装有出液阀，该出液阀为具有回吸功能的两位两通阀；所述进液口位于分隔桶上下两端之间。本专利技术的优点与积极效果为:1.本专利技术通过不同时间开闭不同阀门及带有分隔桶的缓存罐结构实现了低成本即可清除气泡，结构简单，分隔桶能很好地让气泡和液体分离。2.本专利技术的进液口位于缓存罐罐壁的偏心处，使进入缓存罐的液体做旋转运动，气泡在离心力的作用下，浮向中心，这可以加速气泡和液体的分离。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术的整体结构示意图；图2为图1中缓存罐的俯视图；其中:1为出液口，2为分隔桶，3为下位传感器，4为上位传感器，5为接负压管，6为排气阀，7为排气口，8为缓存罐，9为进液口，10为进液阀，11为进液管，12为出液阀，13为出液管。【具体实施方式】下面结合附图对本专利技术作进一步详述。如图1、图2所示，本专利技术包括分隔桶2、缓存罐8、接负压管5、进液管11、出液管13、排气阀6、进液阀10、出液阀12、上位传感器4及下位传感器3，其中分隔桶2安装在缓存罐8的底部，在缓存罐8的底部设有出液口 1，该出液口 1位于分隔桶2内，分隔桶2的轴向中心线与出液口 1的轴向中心线及缓存罐8的轴向中心线共线；缓存罐8的上部设有排气口 7，罐壁上开有进液口 9。出液口 1连通有出液管13，在出液管13上安装有出液阀12，该出液阀12为具有回吸功能的两位两通阀；排气口 7连通有接负压管5，在接负压管5上安装有排气阀6，该排气阀6为两位两通气动阀；进液口 9连通有进液管11，在进液管11上安装有进液阀10，该进液阀10为两位两通气动阀；排气阀6、进液阀10及出液阀12分别与控制装置相连，本实施例的控制装置为现有技术。缓存罐8的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器4及下位传感器3，上位传感器4及下位传感器3上下平行设置，位于缓存罐罐壁的同侧，均位于分隔桶2之上。进液口 9偏心设置在缓存罐8的罐壁上、位于分隔桶2上下两端之间，由进液口 9进入到缓存罐8内的液体绕着分隔桶2的外围做旋转运动；与进液口 9连通的进液管11与竖直平面相平行，或倾斜于竖直平面，即缓存罐8的水平投影为圆形，进液管11可与圆形的缓存罐水平投影的水平中心线平行、且垂直于竖直中心线，也可以分别倾斜于缓存罐水平投影的水平中心线和竖直中心线；本实施例的进液管11是与缓存罐水平投影的水平中心线平行、且垂直于竖直中心线。本专利技术的工作原理为:在使用前先进行初始化操作，控制装置控制打开排气阀6和进液阀10，使液体进入缓存罐8，液位逐渐上升；当上位传感器4感测到液体时，将信号传递给控制装置，由控制装置控制关闭进液阀10和排气阀6。初始化结束后，即可正常使用。在正常使用时，控制装置控制打开进液阀10和出液阀12，液体就会从进液管11进入，液体流经进液阀10、进液口 9、缓存罐8、出液口 1、出液阀12、出液管13到喷嘴。液体流经进液阀10及进液口 9进入缓存罐8的时候，因进液口 9位于偏心位置，液体会在缓存罐8中做旋转运动，如图2中的箭头所示；气泡由于较液体轻，会在旋转过程中上浮，当气泡积聚到预定程度，液面下降；当下位传感器3感测到气体信号后，本装置就会进入排气过程，排气过程与上述初始化操作过程相同，排气过程结束后即会进入正常使用过程。【权利要求】1.一种清除液体中气泡的结构，其特征在于:包括内部带有分隔桶(2)的缓存罐(8)、接负压管(5)、进液管(11)及出液管(13 )，其中缓存罐(8 )的底部设有出液口( 1)、上部设有排气口( 7)、罐壁上开有进液口( 9 )，出液口( 1)位于分隔桶(2 )内；所述出液口( 1)、排气口(7)及进液口(9)分别连通有出液管(13)、接负压管(5)及进液管(11)，各管路上分别安装有与控制装置相连的阀体；所述缓存罐(8)的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器(4)及下位传感器(3)。2.按权利要求1所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述进液口(9)偏心设置在缓存罐(8)的罐壁上，由进液口(9)进入到缓存罐(8)内的液体做旋转运动。3.按权利要求1或2所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述与进液口(9)连通的进液管(11)与竖直平面相平行，或倾斜于竖直平面。4.按权利要求1所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述分隔桶(2)安装在缓存罐(8)的底部，分隔桶(2)的轴向中心线与出液口(1)的轴向中心线及缓存罐(8)的轴向中心线共线。5.按权利要求1所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述上位传感器(4)及下位传感器(3 )上下平行设置，均位于分隔桶(2 )之上。6.按权利要求1所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述接负压管(5)上安装有排气阀(6 )，该排气阀(6 )为两位两通阀。7.按权利要求1所述清除液体中气泡的结构，其特征在于:所述进液管(11)上安装有进液阀(10),该进液阀(10)为两位两通阀。8.按权利要求1所述清除液体中气本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种清除液体中气泡的结构，其特征在于：包括内部带有分隔桶（2）的缓存罐（8)、接负压管（5)、进液管（11）及出液管（13），其中缓存罐（8）的底部设有出液口（1)、上部设有排气口（7)、罐壁上开有进液口（9），出液口（1）位于分隔桶（2）内；所述出液口（1)、排气口（7）及进液口（9）分别连通有出液管（13)、接负压管（5）及进液管（11），各管路上分别安装有与控制装置相连的阀体；所述缓存罐（8）的罐壁上分别设有与控制装置相连的上位传感器（4）及下位传感器（3）。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张怀东，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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