聚氟硅氧烷制备的防污氟硅涂料及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种氢基封端聚氟硅氧烷，其制备方法为氮气保护下，在催化剂作用下进行100重量份三氟丙基甲基环三硅氧烷与8-25重量份四甲基二氢二硅氧烷的开环聚合反应；反应结束后，加入碳酸钙，中和至PH为7，然后过滤固体，滤液再经减压蒸馏，脱除低沸物，最终得氢基封端聚氟硅氧烷。并在此基础上制备了一种防污氟硅涂料。本发明专利技术利用氟硅材料的低表面能，合成并制备涂层，起到防污效果。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种氢基封端聚氟硅氧烷，其制备方法为氮气保护下，在催化剂作用下进行100重量份三氟丙基甲基环三硅氧烷与8-25重量份四甲基二氢二硅氧烷的开环聚合反应；反应结束后，加入碳酸钙，中和至PH为7，然后过滤固体，滤液再经减压蒸馏，脱除低沸物，最终得氢基封端聚氟硅氧烷。并在此基础上制备了一种防污氟硅涂料。本专利技术利用氟硅材料的低表面能，合成并制备涂层，起到防污效果。【专利说明】聚氟硅氧烷制备的防污氟硅涂料及其应用
本专利技术属于涂料
，具体涉及一种双端含氢聚氟硅氧烷及其制备方法和利用该聚氟硅氧烷制得的防污氟硅涂料及其应用，用于改善电子器件的表面防污性能。
技术介绍
当今电子科技的发展迅速，人们对电子器件的要求越来越高。在电子触摸屏领域，触摸屏技术给操作、控制带来了诸多方便。随着触摸屏的普遍应用于推广，对触摸屏的防污性能提出了更高的要求。目前，为了提升产品的质量和档次，采用高抛光金属基材的手机、个人计算机、笔记本电脑以及个人数字助理等各种3C电子产品越来越多，其光亮如镜的表面能给人以美好的感受。然而，由于电子产品在使用过程中经常要受到人的汗溃和/或油污等接触，高亮的表面很容易被污染，影响产品的美观度。因此迫切需要在电子产品表面涂覆一层具有较好防污能力的涂层，且由于电子产品本身的使用特点，长时间处于与各种物体摩擦的状态，因此该涂层除了要求具有低表面能的特点外，还需高硬度、高耐磨和高耐刮擦。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种双端含氢聚氟硅氧烷及其制备方法和利用该聚氟硅氧烷制得的防污氟硅涂料。该防污氟硅涂料应用到电子器件表面后，能够使得器件表面具有一定的防污性能。本专利技术首先合成了一种氢基封端聚氟硅氧烷，其结构通式(I )如下所示:【权利要求】1.一种氢基封端聚氟硅氧烷，其结构通式(I )如下所示: 2.—种氢基封端聚氟硅氧烷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)在催化剂作用下，通过氮气保护进行100重量份三氟丙基甲基环三硅氧烷与8-25重量份四甲基二氢二硅氧烷的开环聚合反应； (2)反应结束后，向体系中加入碳酸钙，中和至PH为7，然后过滤固体，滤液再经减压蒸馏，脱除低沸物，最终得氢基封端聚氟硅氧烷。3.如权利要求2所述的一种氢基封端聚氟硅氧烷的制备方法，其特征在于所述的催化剂为三氟甲磺酸，所述聚合反应温度为65°C。4.一种防污氟硅涂料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤: (1)制备防污氟硅涂料基料 氮气保护下，将20-30重量份全氟丁基乙烯、10-20重量份乙烯基三甲氧基硅烷和钼金催化剂混合体系在50°C下搅拌30min，再将100重量份前述的氢基封端聚氟硅氧烷在搅拌状态下滴入体系中，然后升温至80°C，搅拌I小时后停止反应，然后进行常压、减压蒸馏，再加入活性炭吸附，过滤后得防污氟硅涂料基料； (2)配制防污氟硅涂料 将防污氟硅涂料基料溶于正庚烷中，配制成固含量为40%的溶液，并加入0.1%的二月桂酸二丁基锡作为湿固化催化剂，得防污氟硅涂料。5.如权利要求4中所述的一种防污氟硅涂料的制备方法，其特征在于步骤(2)中所述钼金催化剂为卡斯特型，含钼量为20000ppm。6.一种如权利要求4或5所述的防污氟硅涂料的应用方法，其特征在于:将所述涂料均匀刮涂于器件表面，并将器件置于80°C的烘箱4小时，降温取出即可。【文档编号】C07F7/08GK103709186SQ201310731950【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年12月27日 优先权日:2013年12月27日 【专利技术者】陈维, 吴军, 王建斌, 陈田安 申请人:烟台德邦先进硅材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氢基封端聚氟硅氧烷，其结构通式（Ⅰ）如下所示：（Ⅰ）其中，n的范围为4?10。918831dest_path_image001.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈维，吴军，王建斌，陈田安，
申请(专利权)人：烟台德邦先进硅材料有限公司，
类型：发明
国别省市：