校正治具制造技术

本发明专利技术公开了一种校正治具，该校正治具包括：校正架，所述校正架包括：校正基台、支撑架和校正顶针，所述校正基台水平放置，所述校正基台上设置有限位槽，所述支撑架设置于所述校正基台上，所述校正顶针竖直穿过所述支撑架，所述校正顶针位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撑基座或中间连杆，所述校正顶针竖直向下运动至所述靶材支撑基座的凹槽内以对所述凹槽的异常处进行校正，本发明专利技术提供校正治具，其操作简单、校正精确度高，同时校正过程中所耗费的时间短、校正工作量小。

【技术实现步骤摘要】
校正治具
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种校正治具。
技术介绍
在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-1XD)生产制造过程中，需要使用磁控溅射设备(PVD)对玻璃基板进行镀膜。在6代及以上立式磁控溅射设备中，该设备包括一靶材支撑部件，该祀材支撑部件用于支撑祀材和固定防着板(Ground Shield,简称GS),其中防着板用于防止靶材原子溅射到被镀物以外的其它位置。图1为靶材支撑部件的结构示意图；图2为图1中靶材支撑基座与中间连杆装配后的结构示意图，如图1和图2所示:该靶材支撑部件包括:靶材支撑基座I和中间连杆2，靶材支撑基座2上设置有凹槽101，中间连杆2可紧密固定于置于凹槽101内，进一步地，在凹槽101内设置有第一螺孔102，中间连杆上对应第一螺孔102处射有第二螺孔，通过不锈钢螺钉穿过第一螺孔102和第二螺孔可使得靶材支撑基座I与中间连杆2装配。其中，防着板使用的材料为304不锈钢(0Crl8Ni9)，该不锈钢的化学成分为，碳(C): ≤0.07%、硅(Si): ≤ 1.0%、锰(Mn):≤ 2.0%、铬(Cr):17.0% ~19.0%、镍(Ni):8.0%~11.0%、硫(S):≤0.03%、磷(P)：≤ 0.035% ;物理特性:拉强度≤620Mpa,屈服强度≤310Mpa，伸长率≤30%，面积缩减< 40%，密度为7.93g/cm3,304不锈钢耐高温方面比较好，能达到750~800度，有较高的塑性、韧性和机械强度，且耐腐蚀。在利用磁控溅射设备在进行镀膜过程中，加工腔室内为高温、真空环境，在持续高温的作用下，靶材支撑基座容易产生延展变形，进而带动凹槽一起发生形变。具体地，靶材支撑部件的两个端部分别通过定位螺钉固定在加工腔室中，靶材支撑部件的中间部位用来支撑靶材和承接防着板，由于靶材支撑部件的中间部位在加工腔室中没有支撑点，因此该部件在固定受力不均的情况下容易发生整体形变。当靶材支撑部件发生形变后，加工腔室内的部分等离子体可绕过防着板溅射到中间连杆和凹槽两侧，对靶材支撑部件局部产生应力，且随着中间连杆和凹槽两侧的膜厚的增加，受溅射部位的局部应力随之增加，进而使得靶材支撑基座和中间连杆均产生“S”形变。而靶材支撑基座和中间连杆均产生“S”形变后，会致使靶材与防着板的间距会发生改变，从而使得防着板的局部会受到等离子体的异常轰击，经过一段时间后，防着板上被异常轰击的位置产生脱落，导致靶材与防着板导通，容易造成加工腔室内的异常放电，最终造成产品不良或者电源短路无法放电，更严重地，则会烧毁电源、击穿靶材支撑部件。为了提高靶材支撑部件使用寿命，稳定产品品质并降低企业生产成本，则对靶材支撑部件需定期进行清洗，在清洗过程中需要将靶材支撑基座和中间连杆分离清洗。在分离后，靶材支撑基座和中间连杆上的局部应力会得到释放，引起靶材支撑基座和中间连杆发生形变，进而使得靶材支撑基座和中间连杆配合失效。因此，需要对靶材支撑基座和中间连杆进行校正。传统矫正方法是使用水平台进行形变量的测量，利用专用夹具和液压平台对其形状进行保持，然后边测量边做出适当调整，最后加热6?8小时进行去除应力，传统方式只可矫正靶材支撑基座的外形尺寸，但不能对凹槽形变进行矫正，而且传统的校正方法的矫正时间持续较长，工作量大。
技术实现思路
本专利技术提供一种校正治具，该校正治具可对靶材支撑基座的凹槽、外形尺寸以及中间连杆的外形尺寸进行校正，且校正时间较短、工作量小、精确度高。为实现上述目的，本专利技术提供一种校正治具，该校正治具包括:校正架，所述校正架包括:校正基台、支撑架和校正顶针，所述校正基台水平放置，所述校正基台上设置有限位槽，所述支撑架设置于所述校正基台上，所述校正顶针竖直穿过所述支撑架，所述校正顶针位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撑基座或中间连杆，所述校正顶针竖直向下运动至所述靶材支撑基座的凹槽内以对所述凹槽进行校正。可选地，所述限位槽的一个侧壁上还设置有调节螺母，所述调节螺母配合所述限位槽的另一个侧壁用于固定所述靶材支撑基座。可选地，所述支撑架上设置有通孔，所述通孔的内壁设置有内螺纹，所述校正顶针的柱身设置有与所述内螺纹对应的外螺纹，所述校正顶针置于所述通孔内。可选地，所述校正基台和所述支撑架一体成型。可选地，所述校正架的数量为至少两个，至少一个所述校正架在水平方向上移动以对所述中间连杆的外形尺寸或所述靶材支撑基座的外形尺寸进行校正。可选地，所述校正治具还包括:第一底座、第二底座和第一移动导轨，所述第一底座和所述第二底座均水平放置，所述第一底座位于所述第二底座的上方且与所述第二底座垂直，所述第一移动导轨与所述第一底座平行且固定于所述第一底座上，所述校正架位于所述第一移动导轨上方，所述第一移动导轨用于带动所述校正架沿所述第一移动导轨移动。可选地，所述第一移动导轨包括:第一丝杠和手动转轮，所述手动转轮带动所述第一丝杠转动以使所述校正架移动。可选地，至少一个所述第一底座的下方还设置有第二移动导轨，所述第二移动导轨与所述第二底座平行且固定于所述第二底座上，所述第二移动导轨用于带动所述第一底座沿所述第二移动导轨移动。可选地，所述第二移动导轨包括:电动马达和第二丝杠，所述电动马达带动所述第二丝杠转动以使所述第一底座移动。可选地，还包括:定型模具，所述定型模具包括:第三底座和位于所述第三底座上的凸起，当所述校正治具对所述靶材支撑基座的外形尺寸进行校正时，所述凸起置于所述靶材支撑基座的凹槽内以防止所述靶材支撑基座的凹槽变形。本专利技术具有以下有益效果:本专利技术提供了一种校正治具，该校正治具包括校正架，该校正架包括:校正基台、支撑架和校正顶针，通过校正顶针的移动可对支撑基座的凹槽进行校正，通过校正架的移动可对支撑基座的外形尺寸或中间连杆的外形尺寸进行校正，本专利技术提供校正治具，其操作简单、校正精确度高，同时校正过程中所耗费的时间短、校正工作量小。【附图说明】图1为靶材支撑部件的结构示意图；图2为图1中靶材支撑基座与中间连杆装配后的结构示意图；图3为本专利技术实施例一提供的校正治具的结构示意图；图4为本专利技术实施例二提供的校正治具的结构示意图；图5为图4中A结构的局部放大图；图6为定型模具的结构示意图；图7为定型模具与靶材支撑基座对位时的示意图。【具体实施方式】为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术提供的校正治具进行详细描述。图3为本专利技术实施例一提供的校正治具的结构示意图，如图3所示，该校正治具包括:校正架，校正架包括:校正基台3、支撑架4和校正顶针5，其中，校正基台3水平放置，校正基台3上设置有限位槽301 ，支撑架4设置于校正基台3上，校正顶针5竖直穿过支撑架4，校正顶针5位于限位槽301的正上方，限位槽301用于固定靶材支撑基座或中间连杆，校正顶针5竖直向下运动至靶材支撑基座的凹槽内以对凹槽的异常处进行校正。在实际生产过程中，当靶材支撑基座和中间连杆均产生“S”形变时，需要对靶材支撑基座的凹槽、外形尺寸以及中间连杆的外形尺寸均进行校正。本实施例中，凹槽的校正可分为两种，一是点校正，二是线校正。具体地，点校正是指对凹槽中某一异常点进行校正，线校正是指对凹槽中某一弯曲段进行校正。在利用本实施例提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种校正治具，其特征在于，包括：校正架，所述校正架包括：校正基台、支撑架和校正顶针，所述校正基台水平放置，所述校正基台上设置有限位槽，所述支撑架设置于所述校正基台上，所述校正顶针竖直穿过所述支撑架，所述校正顶针位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撑基座或中间连杆，所述校正顶针竖直向下运动至所述靶材支撑基座的凹槽内以对所述凹槽的异常处进行校正。

【技术特征摘要】
1.一种校正治具，其特征在于，包括:校正架，所述校正架包括:校正基台、支撑架和校正顶针，所述校正基台水平放置，所述校正基台上设置有限位槽，所述支撑架设置于所述校正基台上，所述校正顶针竖直穿过所述支撑架，所述校正顶针位于所述限位槽的正上方，所述限位槽用于固定靶材支撑基座或中间连杆，所述校正顶针竖直向下运动至所述靶材支撑基座的凹槽内以对所述凹槽的异常处进行校正。2.根据权利要求1所述的校正治具，其特征在于，所述限位槽的一个侧壁上还设置有调节螺母，所述调节螺母配合所述限位槽的另一个侧壁用于固定所述靶材支撑基座。3.根据权利要求1所述的校正治具，其特征在于，所述支撑架上设置有通孔，所述通孔的内壁设置有内螺纹，所述校正顶针的柱身设置有与所述内螺纹对应的外螺纹，所述校正顶针置于所述通孔内。4.根据权利要求1所述的校正治具，其特征在于，所述校正基台和所述支撑架一体成型。5.根据权利要求1所述的校正治具，其特征在于，所述校正架的数量为至少两个，至少一个所述校正架在水平方向上移动以对所述中间连杆的外形尺寸或所述靶材支撑基座的外形尺寸进行校正。6.根据权利要求5所述的校正治具，其特征在于，所述校正治具还包括:第一底座、第...

【专利技术属性】
技术研发人员：王召波，朴祥秀，张勋泽，朱昊，张卓然，刘飞，张文俊，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司， 京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34