用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法技术

本发明专利技术涉及用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法。基膜由上表层、芯层、下表层构成，上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体。下表层为转移层。生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按比例混合配制。本发明专利技术的制造方法是，将原辅材料按配方配比混合，送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜。本发明专利技术的优点是，由于基膜所用原材料主要为均聚聚丙烯，该原材料的市场价格比其它同类用途的基膜生产原材料低，双向拉伸工艺生产效率高，生产成本低，且用户可用此种基膜直接进行压印蒸镀加工。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新型用途的聚丙烯基膜及其制造方法，特别是。利用此种基膜可以加工出具有镭射效果的产品，并通过镭射转移，从而达到对被包装商品装饰、装璜或防伪效果。本专利技术的解决技术方案是，基膜由上表层、芯层、下表层构成，上表层、芯层、下表层通过热熔共挤成为一体，芯层位于上表层、下表层之间，其中下表层为转移层。上表层、下表层的厚度分别为基膜厚度的10％-12％。生产基膜的上表层、芯层、下表层的原辅材料的组份按如下比例混合配制 上表层二元共聚聚丙烯65％；三元共聚聚丙烯29％-31％；防粘剂4-6％芯层均聚聚丙烯99.5-99.8％；脱模剂0.2-0.5％；下表层均聚聚丙烯99.2-99.5％；脱模剂0.5-0.8％。本专利技术的制造工艺，工艺流程为首先经原辅料选型，再将原辅材料按配方配比混合，拌合均匀，将拌合均匀的原辅材料送入挤出机塑化成熔体，熔体通过管道，经模头、铸片装置，共挤成厚片，厚片经双向拉伸机纵向拉伸和横向拉伸成薄膜，薄膜的厚度采用自动测厚装置调节，达到规定厚度的薄膜经电晕处理以增强薄膜表面张力，再将经电晕处理后的薄膜牵引成大卷膜，再将大卷膜送入时效处理装置，然后经过本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于镭射压印转移的双向拉伸聚丙烯基膜，其特征在于，基膜由上表层（１）、芯层（２）、下表层（３）构成，上表层（１）、芯层（２）、下表层（３）通过热熔、共挤成为一体，芯层（２）位于上表层（１）、下表层（２）之间，其中下表层（３）为转移层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：栾德海，江畅，陈德超，褚峰林，
申请(专利权)人：中包云梦塑料薄膜厂，
类型：发明
国别省市：42[中国|湖北]