高频烹调器制造技术

本发明专利技术包括：加热室（1）；磁控管（2）；设置在为与所述加热室（1）相对的表面的壁表面上的波导管（3）；设置所述在加热室（1）的壁表面上的馈电口（4）；微波发射盖（5），该微波发射盖关闭所述馈电口（4）以便防止蒸汽或污染物从馈电口（4）进入；以及防污盖（6），该防污盖覆盖所述微波发射盖（5）的上端面。当蒸汽或调料被散布并且粘附至所述加热室的壁表面并且流下时，伞状构件也能防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的表面或背面，由此能防止微波发射盖被熔融/变形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高频烹调器
本专利技术涉及一种高频烹调器，诸如微波炉，其通过波导管引导微波并且将微波通过馈电口供应到加热室中。
技术介绍
常规地，高频烹调器包括：馈电口，该馈电口用于供应微波，该微波从用作微波产生装置的磁控管产生并且由波导管引导到加热室中；以及关闭该馈电口的微波发射盖。图4是示出了相关部件的常规的高频烹调器的剖视图，并且常规的高频烹调器包括磁控管2、波导管3和微波发射盖5，如图4所示。另外，存在这样一种常规的高频烹调器，其包括馈电口4，以及形成在馈电口周向部处的馈电口外周推动构件7（例如，参见专利文献1）。现有技术文献专利文献专利文献1：JP-A-4-209493
技术实现思路
本专利技术待解决的问题在上述常规的构造中，从磁控管2产生的微波由波导管3引导，并且通过馈电口4被供应到加热室1中，由此在加热室中烹调食物。这时，由于微波产生的壁表面电流在馈电口4的边缘表面上流动，由此产生热。该产生的热使微波发射盖5熔融/变形。然而，存在这样一种常规的构造，其中通过提供在该馈电口周向部处形成的馈电口外周推动构件7，馈电口周向部不会接触微波发射盖5，由此微波发射盖5不容易被熔融/变形。然而，即使在该常规的构造中，也存在这样的问题，即，其中当在微波烹饪食物的情况下从加热室1中的食物产生的蒸汽或调料被散布，蒸汽或调料粘附至加热室1的壁表面，流动以粘附至微波发射盖5的前侧或后侧，并且被微波加热，由此微波发射盖5被熔融/变形。本专利技术的目的在于提供一种高频烹调器，其防止由于来自食物的蒸汽或调料造成的污染并且还防止微波发射盖被熔融/变形。解决问题的手段为了解决现有技术中的问题，本专利技术的高频烹调器包括：关闭馈电口的微波发射盖；以及伞状构件，该伞状构件设置在比所述馈电口更向上的表面上，以便覆盖所述微波发射盖的上边缘。因此，即使当在微波烹调食物的情况下从加热室中的食物产生的蒸汽或调料被散布，粘附至加热室的壁表面并且流下，伞状构件也能防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的前侧或后侧。此外，伞状构件包括盖保持构件，该盖保持构件包括设置在两个端部处的台阶部以减小与加热室的壁表面的间隙，并且还被构造成固定微波发射盖，由此能防止污染物的粘附，并且能保证微波发射盖和加热室的壁表面之间的紧密配合。专利技术的效果根据本专利技术的高频烹调器，伞状构件设置在比馈电口更向上的表面上以覆盖微波发射盖的上边缘，由此可以防止由来自食物的蒸汽或调料造成的污染并且还防止微波发射盖被熔融/变形。附图说明图1是示出相关部件的根据本专利技术的实施方式1的高频烹调器的剖视图；图2是根据本专利技术的实施方式1的高频烹调器的立体图；图3是示出相关部件的根据本专利技术的实施方式2的高频烹调器的立体图；以及图4是示出相关部件的常规的高频烹调器的剖视图。具体实施方式在第一专利技术中，高频烹调器包括：加热室；高频发生装置；波导管，该波导管形成在与加热室相对的表面上并且引导由高频发生装置产生的微波；馈电口，该馈电口形成在加热室的壁上并且允许由波导管引导的微波被供应到加热室中；关闭馈电口的微波发射盖；以及伞状构件，该伞状构件设置在比馈电口更向上的表面上以覆盖微波发射盖的上边缘。因此，即使当在微波烹调食物的情况下从加热室中的食物产生的蒸汽或调料被散布，粘附至加热室的壁表面并且流下，伞状构件也能防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的前侧或后侧，由此微波发射盖不会被熔融/变形。在第二专利技术中，根据第一专利技术的伞状构件包括盖保持构件，该盖保持构件包括设置在两个端部处的台阶部以减小与加热室的壁表面的间隙，并且还被构造成固定微波发射盖。该构造能防止污染物的粘附，并且还能保证微波发射盖和加热室的壁表面之间的紧密配合。在下文中，将参照附图描述本专利技术的实施方式。然而，本专利技术不限于本专利技术的实施方式。（实施方式1）图1是示出相关部件的根据本专利技术的第一实施方式的高频烹调器的剖视图，并且图2是根据本专利技术的第一实施方式的高频烹调器的立体图。图1中，根据本专利技术的第一实施方式的高频烹调器包括：用于加热待被加热的物品的加热室1；用作高频发生装置的磁控管2；设置在作为与加热室1相对的表面的壁表面上的波导管3；设置在加热室1的壁表面上的馈电口4；微波发射盖5，该微波发射盖关闭馈电口4以便防止蒸汽或污染物从馈电口4进入；以及防污盖6，该防污盖覆盖微波发射盖5的上边缘。在下文中，将描述具有上述构造的高频烹调器的操作和效果。首先，从磁控管2产生的微波由波导管3引导，并且通过馈电口4被供应到加热室1中，由此烹调加热室中的食物。这时，由于微波产生的壁表面电流在馈电口4的边缘表面上流动以产生热。此外，较大的壁表面电流在馈电口4的靠近磁控管2的周向部处流动以产生更多的热量。通常，当加热室中的食物由微波烹调时，蒸汽产生，或者调料被散布。这时，粘附至加热室1的壁表面的蒸汽或调料在加热室1的壁表面上流动，并且粘附至微波发射盖5的前侧。另外，在微波发射盖5和加热室的壁表面之间存在间隙，使得蒸汽或调料有时流过间隙，并且也可以粘附至微波发射盖5的后侧。如果蒸汽或调料粘附至馈电口4的边缘表面的周向部，则该周向部由微波强烈地加热以产生更多的热量而使微波发射盖熔融/变形。然而，因为用作伞状构件的防污盖6被设置成覆盖微波发射盖5的上边缘，因此可以防止蒸汽或调料粘附至微波发射盖的前侧或后侧，由此能防止微波发射盖被熔融/变形。（实施方式2）图3是示出相关部件的根据本专利技术的第二实施方式的高频烹调器的立体图。与根据本专利技术的第一实施方式的部件相同或相当的部件的描述被省略或简化。图3中，伞状防污盖6被设置成覆盖微波发射盖5的上边缘，并且包括盖保持构件8，该盖保持构件包括设置在防污盖6的两个端部处的台阶部以减小与加热室1的壁表面的间隙。微波发射盖5被固定以插入间隙中，并且由盖保持构件8挤压以与加热室1的壁表面密切接触，从而改善微波发射盖5和加热室1的壁表面之间的紧密配合，并且进一步防止蒸汽或调料轻易地进入微波发射盖5的后侧。另外，因为盖保持构件8设置在防污盖6的两个端部处，因此在这些部分处由微波产生较少的热量，从而即使这些部分的伞部分的重叠宽度减小，微波发射盖5也不会被熔融/变形。该申请基于2011年7月26日提交的日本专利申请（申请No.2011-162738），该日本专利申请的全部内容通过引用并入本文。工业应用性如上所述，即使室被长期使用并且被弄脏，根据本专利技术的高频烹调器也能防止微波发射盖被熔融/变形的缺陷。因此，本专利技术能有效地适用于高频烹调器。附图标记的说明1：加热室2：磁控管3：波导管4：馈电口5：微波发射盖6：防污盖7：馈电口外周推动构件8：盖保持构件本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高频烹调器，该高频烹调器包括：加热室；高频发生装置；波导管，该波导管形成在与所述加热室相对的表面上并且引导由所述高频发生装置产生的微波；馈电口，该馈电口形成在所述加热室的壁上并且允许由所述波导管引导的微波被供应到所述加热室中；微波发射盖，该微波发射盖关闭所述馈电口；以及伞状构件，该伞状构件设置在比所述馈电口更向上的表面上以覆盖所述微波发射盖的上边缘。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.07.26 JP 2011-1627381.一种高频烹调器，该高频烹调器包括：加热室；高频发生装置；波导管，该波导管形成在与所述加热室相对的表面上并且引导由所述高频发生装置产生的微波；馈电口，该馈电口形成在所述加热室的壁上并且允许由所述波导管引导的微波被...

【专利技术属性】
技术研发人员：早川雄二，阿部邦昭，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP