一种用于制作凹面闪耀光栅的基材结构及凹面闪耀光栅制作方法技术

本申请涉及凹面闪耀光栅制作技术领域，特别涉及一种用于制作凹面闪耀光栅的基材结构及凹面闪耀光栅制作方法，制作凹面闪耀光栅时先在凹面光栅基底上黏贴软膜并在其上涂覆成型光刻胶光栅层，然后再将软膜剥离凹面光栅基底并黏贴至平面基底上，以光刻胶光栅层为掩模将软膜蚀刻为软膜光栅，由于其蚀刻的掩模是在凹形光栅基底上显影成型的，因此其最终的光栅结构能够精准的匹配凹形光栅基底，另一方面，由于去光栅结构是在平面基底上进行离子束蚀刻的，其不会受到凹形光栅基底的影响，能够有效降低其制造难度并提高制造精度。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及凹面闪耀光栅制作
，特别涉及。
技术介绍
光栅是一种应用非常广泛而重要的高分辨率的色散光学元件，在现代光学仪器中占有相当重要的地位。单个栅缝衍射主极大方向实际上既是光线的几何光学传播方向，也是整个多缝光栅的零级方向，它集中着光能，而又不能把各种波长分开，而实际应用中则偏重于将尽可能多的光能集中在某一特定的级次上。为此需要将衍射光栅刻制成具有经过计算确定的槽形，使单个栅槽衍射的主极大方向(或光线几何光学传播方向)与整个光栅预定的衍射级次方向一致，这样可使大部分光能量集中在预定的衍射级次上。从这个方向探测，光谱的强度最大，这种现象称为闪耀(blaze)，这种光栅称为闪耀光栅。闪耀使得光栅的衍射效率得到极大的提高。闪耀光栅一般又分为平面闪耀光栅和、凸面闪耀光栅和凹面闪耀光栅。其中凹面闪耀光栅集色散、聚焦、平像场等功能于一体，是便携式光栅光谱仪器等光学仪器的关键元件，直接决定着这些光学仪器的最终质量。现有技术中，闪耀光栅的主要制作方法有以下几类: A.机械刻划 机械刻划是用金刚石刻刀在金、铝等基底材料上刻划出光栅的方法，早期的闪耀光栅大多用该方法制作。然而，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种凹面闪耀光栅的制作方法，其特征在于包括：步骤A：将可弯曲形变的软膜黏贴在凹面光栅基底的工作面上；步骤B：在软膜上涂覆光刻胶层，并对所述光刻胶层进行干涉光刻，形成光刻胶光栅层；步骤C：将覆盖有光刻胶光栅层的软膜从凹面光栅基底上剥离并固定至一非凹面的蚀刻基底的工作面上；步骤D：以所述光刻胶光栅层为掩模，对软膜进行离子束刻蚀，将光刻胶光栅层的光栅图形转移到软膜上，形成软膜光栅；步骤E：将软膜光栅从平面基底上取下并将其黏贴回凹面光栅基底。

【技术特征摘要】
1.一种凹面闪耀光栅的制作方法,其特征在于包括: 步骤A:将可弯曲形变的软膜黏贴在凹面光栅基底的工作面上； 步骤B:在软膜上涂覆光刻胶层，并对所述光刻胶层进行干涉光刻，形成光刻胶光栅层； 步骤C:将覆盖有光刻胶光栅层的软膜从凹面光栅基底上剥离并固定至一非凹面的蚀刻基底的工作面上； 步骤D:以所述光刻胶光栅层为掩模，对软膜进行离子束刻蚀，将光刻胶光栅层的光栅图形转移到软膜上，形成软膜光栅； 步骤E:将软膜光栅从平面基底上取下并将其黏贴回凹面光栅基底。2.如权利要求1所述的一种凹面闪耀光栅制作方法，其特征在于所述步骤A包括: 步骤Al:在凹面光栅基底的工作面上镀上分离层； 步骤A3:将分离层与软膜粘接。3.如权利要求2所述的一种凹面闪耀光栅制作方法，其特征在于所述步骤A还包括: 步骤A2:在所述分离层上镀上一层反射层。4.如权利要求1所述的一种凹面闪耀光栅制作方法，其特征在于所述步骤C中所述的蚀刻基底为平面基底。5.如权利要求1所述的一种凹面闪耀光栅制作方法，其特征在于所述步骤C包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：周倩，田瑞，庾健航，
申请(专利权)人：东莞市金达照明有限公司，清华大学深圳研究生院，
类型：发明
国别省市：