【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学计量器件领域，具体说涉及一种光栅及其制备工艺。特别提供了一种利用多层膜技术制备光栅常数可以达到纳米数量级的纳米级光栅(特别是平面反射光栅)的制备技术。
技术介绍
光栅是一种由密集、等间距平行刻线构成的、可以使入射光的振幅或相位(或两者同时)受到周期性空间调制的光学元件。目前使用的反射光栅大多在具有反射性能的基底上通过刻痕方法制备的，其中光栅暗条纹是基底上的刻痕，亮条纹是具有反射性能的基底；透射光栅大多是通过镀膜方法将光栅线条制作在玻璃板或其他具有透光性能的基底上制备的，其中光栅暗条纹大多是玻璃表面上的三氧化二铬线条，亮条纹是具有透光性能的玻璃本身。光栅的分辨本领决定于光栅常数。上述方法制备的光栅可以达到10000线/毫米，但其光栅常数无法达到纳米数量级，因而不能制备一些光栅常数要求更精密的光栅。
技术实现思路
本专利技术的技术解决问题:克服现有光栅制备技术的不足，提供一种光栅常数可以达到纳米数量级的纳米级光栅(特别是平面反射光栅)及其制备技术。本专利技术的技术解决方案:一种纳米级光栅，特别是平面反射光栅。其特征在于:光栅的亮条纹和暗条纹由多层膜各层薄膜材料的横截面构成，其中亮条纹为多层膜中反光材料薄膜的横截面，能够反射特定波长的光波，暗条纹为多层膜中透光材料(或吸光材料)薄膜的横截面，能够透射(或吸收)特定波长的光波。上述纳米级光栅的制备方法，其特征在于采用下述方法进行制造:首先利用多层膜制备技术，由反光材料和透光材料(或吸光材料)交替沉积形成一定厚度的多层膜，然后垂直于多层膜中各层薄膜对多层膜进行切割，切割得到的截面即为由...
【技术保护点】
一种纳米级光栅，其特征在于：光栅的亮条纹和暗条纹由多层膜各层薄膜材料的横截面构成，其中亮条纹为多层膜中反光材料薄膜的横截面，能够反射特定波长的光波，暗条纹为多层膜中透光材料(或吸光材料)薄膜的横截面，能够透射(或吸收)特定波长的光波。
【技术特征摘要】
1.一种纳米级光栅，其特征在于:光栅的亮条纹和暗条纹由多层膜各层薄膜材料的横截面构成，其中亮条纹为多层膜中反光材料薄膜的横截面，能够反射特定波长的光波，暗条纹为多层膜中透光材料(或吸光材料)薄膜的横截面，能够透射(或吸收)特定波长的光波。2.根据权利要求1所述的纳米级光栅，其特征在于:所述光栅由多层膜各层薄膜材料的横截面构成。3.—种纳米级光栅...
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