真空气管防止积膜保护罩制造技术

本发明专利技术给出了一种真空气管防止积膜保护罩，包括后端开口的罩体，罩体表面开有若干个输气孔。在镀膜生产中，将本真空气管防止积膜保护罩套在真空气管外侧，工件受到溅射时，逃逸的金属离子会溅射至伏到本真空气管防止积膜保护罩上，逃逸的金属离子不会直接与真空气管接触，长时间使用后，金属离子会造成输气孔堵塞，只需清除本输气孔内的积膜，便可以继续使用，不用拆除拆下真空气管清理，达到清理方便的目的。

【技术实现步骤摘要】
真空气管防止积膜保护罩
本专利技术涉及一种真空气管防止积膜保护罩。
技术介绍
目前，真空镀膜生产普遍采用磁控溅射方式沉积膜层在工件上，其原理为:通过一个铝制长方体里的很多细小气路溅射所用的工艺气体，铝制长方体均匀分布在溅射靶的两边，工件架受到溅射时，有很多溅射出的离子不能被工件架全吸收，有一部分逃逸出的金属离子就会伏到真空气管上，时间久了会造成真空气管的气孔堵塞，通常的做法是定期拆下真空气管清理。这种方法的缺点是:1、拆卸真空气管很烦琐，拆、装真空气管上时接头及相关配件很容易损坏，接头处容易漏气；2、因卸固定螺丝时维修空间太小，不易操作且时间长；3、在清除积膜时铝制真空气管易损坏；4、真空气管多采用进口件，购买时间长维修成本闻。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种清理方便、安装简单、成本低廉的真空气管防止积膜保护罩，该真空气管防止积膜保护罩能有效保护进口真空气管的气孔永远不会堵塞，原装真空气管不需要拆除清理，不会出现因安装拆卸清理所造成的器件损坏。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种真空气管防止积膜保护罩，包括后端开口的罩体，罩体表面开有若干个输气孔。采用这样的结构后，镀膜生产中，将本真空气管防止积膜保护罩套在真空气管外侦牝工件受到溅射时，逃逸的金属离子会溅射至伏到本真空气管防止积膜保护罩上，逃逸的金属离子不会直接与真空气管接触，长时间使用后，金属离子会造成输气孔堵塞，只需清除本输气孔内的积膜，便可以继续使用，不用拆除拆下真空气管清理，达到清理方便的目的。为了更好的理解本专利技术的
技术实现思路
，以下将本真空气管防止积膜保护罩简称为本保护罩。本保护罩的罩体左、右端面分别开有螺纹孔，顶丝螺栓穿过螺纹孔伸入罩体内；采用这样的结构后，方便本保护罩与真空气管之间的定位。本保护罩的若干个输气孔分别设置在前端面两侧端部；采用这样的结构后，使得本保护罩的输气孔与真空气管的气孔位置对应。【附图说明】图1是本保护罩实施例的结构示意图。【具体实施方式】如图1所示:本保护罩包括罩体1，罩体I大体呈长方体状，罩体I后端面开口，罩体I内部位配合真空气管的空腔，罩体I左、右端面分别开有螺纹孔，顶丝螺栓3穿过螺纹孔伸入罩体I内，罩体I的前端面开有三十六个输气孔2，三十六个输气孔2分别设置在前端面两端，输气孔2与真空气管的气孔位置对应。使用时，镀膜生产中，将本保护罩套在真空气管外侧，旋紧顶丝螺栓3，使得本保护罩固定在真空气管外侧，工件受到溅射时，逃逸的金属离子会溅射至伏到本保护罩上，逃逸的金属离子不会直接与真空气管接触，长时间使用后，金属离子会造成输气孔2堵塞，只需清除本保护罩输气孔2内的积膜，便可以继续使用，不用拆除真空气管清理。以上所述的仅是本专利技术的一种实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术原理的前提下，还可以作出若干变型和改进，这些也应视为属于本专利技术的保护范围，比如输气 孔的个数等等。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空气管防止积膜保护罩，其特征为：它包括后端开口的罩体，罩体表面开有若干个输气孔。

【技术特征摘要】
1.一种真空气管防止积膜保护罩，其特征为:它包括后端开口的罩体，罩体表面开有若干个输气孔。2.根据权利要求1所述的真空气管防止积膜保护罩，其特征为:所述的罩体...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈伟，陈诚，王晓东，邵帅，
申请(专利权)人：安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：