一种Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3 薄膜及其制备方法技术

技术编号:9735291 阅读:105 留言:0更新日期:2014-03-06 01:16
一种Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法,包括以下步骤:将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰按(0.91-0.97):(1-x):(0.08-0.14):x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌均匀,得到BiFeO3前驱液,x=0.01~0.05;将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜下烘烤得干膜,然后在550℃退火,得到晶态BiFeO3薄膜;待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。本发明专利技术采用溶胶凝胶工艺,设备要求简单,适宜在大的表面和形状不规则的表面上制备薄膜,且化学组分精确可控,并且能够大幅度提高薄膜的铁电性能,使Tb和Mn共掺杂的BiFeO3薄膜的饱和的剩余极化强度提高到100μC/cm2以上。

【技术实现步骤摘要】
—种Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法
本专利技术属于功能薄膜材料领域,具体涉及一种Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法。
技术介绍
近年来以BiFeO3为代表的多铁性化合物体系,已形成一个世界范围的单相多铁性磁电材料的研究热潮。它在室温下同时具有铁电有序和反铁磁有序,由于具有较闻的铁电相变温度(TC=1103K)和磁相变温度(Tn=643K)。因此BiFeO3成为可广泛应用于微电子学、光电子学、集成光学和微电子机械系统等领域的重要功能材料。BiFeO3薄膜最大的问题就是低电阻率,无法在室温下测量其铁电性质。一方面,传统的慢速退火工艺制备BiFeO3时,氧空位在高温退火下达到动态平衡,当退火过程结束,部分氧空位滞留其中,形成氧空位的聚集,引起氧剂量的偏移,这种偏移使得铁价态发生波动(Fe3+转化为Fe2+)。铁价态的波动导致大的漏导,从而使BiFeO3漏电流较大,由于大的漏导使其铁电性无法正确测量而获得饱和极化。另一方面,BiFeO3本身具有的低介电常数和低电阻率等性质致使很难观测到电滞回线。这些特点都大大地限制了其应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜及其制备方法,该方法设备要求简单,实验条件容易达到,制备的薄膜均匀性较好,掺杂量容易控制,并能够大幅度提高薄膜的铁电性能。为了达到上述目的,本专利技术制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,包括以下步骤:I)将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰按(0.91-0.97): (1-x): (0.08-0.14):x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌均匀,得到BiFeO3前驱液;其中,BiFeO3前驱液中总的金属离子浓度为0.1~0.5mol/L ;x=0.01~0.05 ;2)将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜于180~260°C下烘烤得干膜,然后在550°C退火7~12min,得到晶态BiFeO3薄膜;3)待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复步骤2)使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。所述的步骤I)混合液中乙二醇甲醚和醋酸酐的体积比为(1:1)~(4:1)。所述的步骤I)中硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰的摩尔比为0.94:(1-x):0.11:x。所述的步骤2)将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上前,BiFeO3前驱液静置24 ~32h。所述的步骤2) 中湿膜的烘烤时间为5~lOmin。一种采用所述方法制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的化学组分为Bia89TbanFeh MnxO3, x=0.01~0.05 ;其为扭曲钙钛矿结构,为三斜相结构属于Pl空间群,剩余极化强度大于100 u C/cm2,在400kV/cm的电场下漏电流密度在10_5A/cm2以下。x=0.01,该Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的饱和极化强度为124.2 u C/cm2,剩余极化强度为108.1 u C/cm2,矫顽场为475.9kV/cm ;在IOOkHz的测试频率下介电常数为215。与现有技术相比,本专利技术具有以下有益效果:1、本专利技术选择镧系元素Tb进行A位掺杂,在BiFeO3的A位掺杂镧系元素可以稳定钙钛矿结构中的铁氧八面体,同时由于Tb替代了部分Bi,使得Bi在退火过程中的挥发量减少从而减少了氧空位的产生,因此,本专利技术能够有效的增强薄膜的绝缘性,减小漏导。另外,本专利技术还选择Mn进行B位掺杂,B位掺杂同样可以有效地改善BiFeO3多铁性能。由于选用的Mn是+2价,所以在替代Fe3+时会因为电荷补偿作用而减小氧空位的产生,从而可以有效的减小漏电流。同时对B位Fe3+离子的替代可以强烈地影响其晶粒内部的磁结构,进而影响其磁性及磁电效应。而且这两种离子的共掺会使得BiFeO3薄膜结构发生转变,由原来的六方相转变为三斜相的Pl空间群。所以,本专利技术采用的是A位稀土离子和B位磁性过渡金属离子共掺杂的方法(即所谓“复合替代”)制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。这种方法能够兼顾两种替代元素的优点,而部分地克服单种元素取代所带来的缺点,使得BiFeO3的电性能得以更加明显的改善。2、目前用于制备BiFeO3薄膜的方法有很多,如化学气相沉积法(CVD)、磁控溅射法(rf magnetron sputtering)、金属有机物沉积法(MOD)、金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)、液相沉积法(LP D)、分子束外延法(MBE)、脉冲激光沉积法(PLD)等。相比其他方法,由于溶胶-凝胶法(Sol-Gel方法)具有不需要昂贵的真空设备,适宜在大的表面和形状不规则的表面上制备薄膜,而且Sol-Gel法制备BiFeOj^膜所需温度低,有利于解决BiFeO3薄膜制备过程中的Fe变价和Bi挥发的问题;同时易于掺杂改性,可以有效地控制薄膜的组分和结构,薄膜化学成分比较容易控制,特别适于制备多组元氧化物薄膜材料,能精确控制薄膜的化学计量比和掺杂;因此,本专利技术采用Sol-Gel方法制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。3、本专利技术设备要求简单,实验条件容易达到,制备的薄膜均匀性较好,掺杂量容易控制,并且可通过掺杂大幅度提高薄膜的铁电性能。这种方法能够制备出剩余极化强度大于100 u C/cm2的BiFeO3薄膜,在400kV/cm的电场下Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的漏电流密度保持在10_5A/cm2以下。【附图说明】图1是本专利技术实施例1制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的XRD 图;图2是本专利技术实施例1制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的SEM 图;图3是本专利技术实施例1制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的电滞回线图;图4是本专利技术实施例1制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的漏电流图。图5是本专利技术实施例1制备的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的介电频谱图。【具体实施方式】实施例1:I)将 Bi (NO3) 3 ? 5H20、Fe (NO3) 3 ? 9H20、Tb (NO3) 3 ? 6H20 和 C4H6MnO4 ? 4H20 按0.94:0.99:0.11:0.01的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌2h使均匀,得到稳定的BiFeO3前驱液;其中,BiFeO3前驱液中总的金属离子浓度为0.3mol/L ;混合液中乙二醇甲醚和醋酸酐的体积比为3:1; 2)将BiFeO3前驱液静置24h,然后在FTO/glass基片上旋涂BiFeO3前驱液制备湿膜,将湿膜于200°C烘烤5min得干膜,然后在550°C快速退火lOmin,得到晶态BiFeO3薄膜。3)待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复步骤2)直到晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。其中,所得的Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:1)将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰按(0.91?0.97):(1?x):(0.08?0.14):x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌均匀,得到BiFeO3前驱液;其中,BiFeO3前驱液中总的金属离子浓度为0.1~0.5mol/L;x=0.01~0.05;2)将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜于180~260℃下烘烤得干膜,然后在550℃退火7~12min,得到晶态BiFeO3薄膜;3)待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复步骤2)使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤: 1)将硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰按(0.91-0.97): (1-x): (0.08-0.14):x的摩尔比溶于由乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,然后搅拌均匀,得到BiFeO3前驱液;其中,BiFeO3前驱液中总的金属离子浓度为0.1~0.5mol/L ;x=0.01~0.05 ; 2)将BiFeO3前驱液旋涂在FTO/glass基片上制备湿膜,将湿膜于180~260°C下烘烤得干膜,然后在550°C退火7~12min,得到晶态BiFeO3薄膜; 3)待晶态BiFeO3薄膜冷却后,再重复步骤2)使晶态BiFeO3薄膜达到所需厚度,即得到Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜。2.根据权利要求1所述的制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,其特征在于:所述的步骤I)混合液中乙二醇甲醚和醋酸酐的体积比为(1:1)~(4:1)。3.根据权利要求1所述的制备Tb和Mn共掺杂高剩余极化强度的BiFeO3薄膜的方法,其特征在于:所述的步骤I)中硝酸铋、硝酸铁、硝酸铽和醋酸锰的摩尔比为0.94:(1-x...

【专利技术属性】
技术研发人员:谈国强董国华罗洋洋
申请(专利权)人:陕西科技大学
类型:发明
国别省市:

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