【技术实现步骤摘要】
一种具有自清洁功能的黑娃材料的制备方法
本专利技术属于太阳能电池领域,具体涉及。
技术介绍
太阳能电池作为一种可再生清洁能源,受到很多国家的关注。其中,硅基太阳能电池的市场占有份额达到90%以上。黑硅材料具有宽光谱吸收的特性,因此在太阳能电池上有很大应用前景。黑硅是一种表面具有准有序或周期性微结构的硅材料。黑硅对太阳光具有很低的反射率和很高的吸收率,它对到近紫外到近红外的光几乎全部吸收。利用黑硅制备的太阳能电池,可以大大提高太阳光的吸收利用率。1995年普林斯顿大学的S.Y.Chou教授首先提出了纳米压印技术。纳米压印技术具有高分辨率,高产量,大面积,低成本等优点而被广泛应用于生物医学,信息存储,亚波长光学器件,纳米电子学等诸多领域中表面微结构的制备。在众多纳米压印技术中,软模板纳米压印技术因其可以在曲面和非平面衬底上快速制备高分辨率纳米图案而更受到关注。自清洁功能是指样品表面具有超疏水性和很低的水滴粘附性,水滴在这种表面极易滚落从而带走表面上灰尘等污染物从而实现自我清洁的效果。具有自清洁功能的表面对于太阳能电池的室外工作性能具有很大意义。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供,能够应用在太阳能电池领域。为实现上述目的,本专利技术的技术方案为:,其特征在于,该方法包括以下步骤:(I)利用匀胶机在硅衬底上均匀涂覆一层聚甲基丙烯酸甲酯;(2)利用匀胶机在聚甲基丙烯酸甲酯层上均匀涂覆一层紫外纳米压印胶;(3)利用紫外纳米压印复合软模板进行紫外纳米压印得到固化的紫外纳米压印胶纳米阵列结构;(4)再利用反应离子刻蚀穿紫外纳米压印胶纳米阵列结构的残余层和下层的 ...
【技术保护点】
一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)利用匀胶机在硅衬底上均匀涂覆一层聚甲基丙烯酸甲酯;(2)利用匀胶机在聚甲基丙烯酸甲酯层上均匀涂覆一层紫外纳米压印胶;(3)利用紫外纳米压印复合软模板进行紫外纳米压印得到固化的紫外纳米压印胶纳米阵列结构;(4)再利用反应离子刻蚀穿紫外纳米压印胶纳米阵列结构的残余层和下层的聚甲基丙烯酸甲酯暴露出硅衬底;(5)利用电子束蒸发镀膜仪器在刻蚀后的样品表面镀一层金属铬,并用举离工艺得到金属铬纳米阵列结构;(6)再以金属铬纳米阵列结构为掩膜,利用三氟甲烷、四氟化碳和氧气的混合气体反应离子刻蚀得到尖劈硅纳米结构即黑硅材料;(7)对刻蚀完成的黑硅材料进行氧气等离子的处理,并接着用氟硅烷试剂进行表面化学处理,即得到具有自清洁功能的黑硅材料。
【技术特征摘要】
1.一种具有自清洁功能的黑硅材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤: (1)利用匀胶机在硅衬底上均匀涂覆一层聚甲基丙烯酸甲酯; (2)利用匀胶机在聚甲基丙烯酸甲酯层上均匀涂覆一层紫外纳米压印胶; (3)利用紫外纳米压印复合软模板进行紫外纳米压印得到固化的紫外纳米压印胶纳米阵列结构; (4)再利用反应离子刻蚀穿紫外纳米压印胶纳米阵列结构的残余层和下层的聚甲基丙烯酸甲酯暴露出硅衬底; (5)利用电子束蒸发镀膜仪器在刻蚀后的样品表面镀一层金属铬,并用举离工艺得到金属铬纳米阵列结构; (6)再以金属铬纳米阵列结构为掩膜,利用三氟甲烷、四...
【专利技术属性】
技术研发人员:边捷,袁长胜,
申请(专利权)人:无锡英普林纳米科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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