【技术实现步骤摘要】
一种硅片冲洗装置
本技术涉及硅片生产辅助设备
，具体涉及一种硅片生产过程中，对硅片进行清洗的硅片冲洗装置。
技术介绍
在单晶硅生产过程中，需要对硅片进行清洗，现有的清洗设备，只是采用一个清洗槽，将硅片放置在清洗槽中并添加清洗水，由人工对硅片进行清洗，清洗槽中的水不能流动，需要频繁的换水，不能对硅片进行彻底的清洗，同时采用人工清洗其效率较低。
技术实现思路
针对上述技术问题，本技术提供一种硅片冲洗装置，其结构比较简单，不需要频繁换水，能够对硅片进行彻底清洗，同时能够提高清洗效率。实现本技术的技术方案如下:一种硅片冲洗装置，包括清洗槽，还包括储水罐、对储水罐中的水进行输送的输送装置，以及位于清洗槽上方的旋转装置，旋转装置包括支架、固定设置在支架上的驱动电机、固定连接在驱动电机输出轴上的转轴，以及固定连接在转轴下端的旋转平台，所述旋转平台位于清洗槽内，输送装置的输出端位于旋转平台的上方。所述清洗槽内设置有对清洗槽内的水位进行检测的液位传感器，液位传感器与控制输送装置工作的控制器连接，所述清洗槽的槽壁设有排水管，排水管与清洗槽内相连通，所述排水管上设有电磁阀，所述电磁阀与控制器连接。液位传感器检测到清洗槽内的清洗水达到设定的值时，就会向控制器发送动作信号，控制器控制电磁阀打开，从而将清洗槽内的水排出。所述输送装置包括进水端与储水罐内部连通的抽水泵，抽水泵的出水端连接有出水管，其出水管的出水端位于旋转平台上方。所述出水管的出水端连接有喷头。所述旋转平台上端面周边设置有挡边，防止旋转平台上的硅片在旋转过程中，从旋转平台上滑落。采用了上述方案，将需要清...
【技术保护点】
一种硅片冲洗装置，包括清洗槽，其特征在于：还包括储水罐、对储水罐中的水进行输送的输送装置，以及位于清洗槽上方的旋转装置，旋转装置包括支架、固定设置在支架上的驱动电机、固定连接在驱动电机输出轴上的转轴，以及固定连接在转轴下端的旋转平台，所述旋转平台位于清洗槽内，输送装置的输出端位于旋转平台的上方。
【技术特征摘要】
1.一种硅片冲洗装置，包括清洗槽，其特征在于:还包括储水罐、对储水罐中的水进行输送的输送装置，以及位于清洗槽上方的旋转装置，旋转装置包括支架、固定设置在支架上的驱动电机、固定连接在驱动电机输出轴上的转轴，以及固定连接在转轴下端的旋转平台，所述旋转平台位于清洗槽内，输送装置的输出端位于旋转平台的上方。2.根据权利要求1所述的一种硅片冲洗装置，其特征在于:所述清洗槽内设置有对清洗槽内的水位进行检测的液位传感器，液位传感器与控制输送装置工作的控制器连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：周建国，夏利荣，
申请(专利权)人：常州市立威刀具有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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