清洗剂及玻璃基板的清洗方法技术

本发明专利技术涉及清洗剂和玻璃基板的清洗方法。在不损害用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板的平坦性的情况下，将残留、附着于表面上的研磨磨粒分散、除去。该清洗剂是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的、包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。玻璃基板的清洗方法包括：使用含有氧化铈的研磨剂对玻璃基板进行研磨的研磨工序，以及利用上述清洗剂对该研磨工序后的该玻璃基板进行清洗的清洗工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
清洗剂，它是用于对用含氧化铈的研磨剂研磨后的玻璃基板进行清洗的清洗剂，其特征在于，该清洗剂是包含(A)有机膦酸、(B)多元羧酸盐、(C)芳族磺酸和(D)胺－环氧烷加成物的水系清洗剂。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：榎本久男，佐原幸治，金子爱子，石川智章，横山哲史，前柳佳孝，田中明，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，帕卡股份有限公司，
类型：
国别省市：