【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种多层矢量图形存储为曝光数据的方法，包括：将待曝光的多层矢量图形栅格化;将栅格化后的所述多层矢量图形数字化；将数字化后的所述多层矢量图形，利用八叉树分割法分割，对分割后的多层矢量图形数据，采用八叉树数据结构进行存储。相应地，本专利技术还公开了一种多层矢量图形存储为曝光数据的系统，本专利技术的有益效果为，本专利技术通过将多层矢量图形存储为曝光数据的方法及系统，解决了现有技术中由于多层矢量图形为多层，从而不能准确存储，进而无法准确光刻的问题，使人们可以低成本、高效地使用无掩模光刻技术。【专利说明】多层矢量图形存储为曝光数据的方法及系统
本专利技术属于光刻
，尤其涉及一种将多层矢量图形存储为曝光数据的方法及系统。
技术介绍
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有一定特征的构图的技术，上述的衬底可用做制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。经常使用的基片为表面涂有光敏感介质的半导体晶片或玻璃基片。在光刻过程中，晶片放置在晶片台上，通过处在光刻设备内的曝...
【技术保护点】
一种多层矢量图形存储为曝光数据的方法，其特征在于，包括：?第1步，将待曝光的多层矢量图形栅格化；?第2步，将栅格化后的所述多层矢量图形数字化；?第3步，将数字化后的所述多层矢量图形，利用八叉树分割法分割，对分割后的多层矢量图形数据，采用八叉树数据结构进行存储。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘涛，赵飞，李显杰，
申请(专利权)人：天津芯硕精密机械有限公司，
类型：发明
国别省市：
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