【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】，光源产生线偏振光，经过偏振分光器分为第一偏振光和第二偏振光；第二偏振光倾斜入射到被测物体表面形成偏振反射光，第一偏振光、偏振反射光分别通过第一、二四分之一波片入射到第一、二反射镜并沿原路返回，经过偏振分光器分别形成第一偏振出射光、第二偏振出射光；偏振反射光先后通过第一分束器和第二分束器分别形成第一光斑和第二光斑，根据第一光斑和第二光斑的位置信息计算被测物体表面的倾斜量；光束接收器接收第一偏振出射光和第二偏振出射光，获得被测物体运动产生的光程差；根据光程差计算出被测物体高度。本专利技术测量精度高，对硅片工艺衬底适应性强可用于表面形貌高低起伏变化的表面高度测量。【专利说明】
本专利技术涉及物体高度测量装置及其测量方法，特别涉及一种利用光束测量物体高度的装置和方法。
技术介绍
随着光刻关键尺寸的不断减小和数值孔径的不断增大，光刻机焦深变得越来越小，因此对光刻机垂向测量装置的精度要求越来越苛刻，特别是对不同的工艺衬底硅片的垂向测量变得更为困难和重要。目前高精度的步进扫描投影光刻机中的硅片高度测量系统(调焦调平系统)，例如美国专利US5118957、U...
【技术保护点】
一种高度测量装置，包括：产生线偏振光的光源，包含频率不同的第一偏振光和第二偏振光，所述第一偏振光和所述第二偏振光的偏振方向互相垂直；偏振分光器，所述线偏振光经过所述偏振分光器后分为所述第一偏振光和所述第二偏振光；其特征在于，还包括：第一四分之一波片和第一反射镜，所述第一偏振光通过所述第一四分之一波片入射到所述第一反射镜并沿原路返回，再次通过所述第一四分之一波片后返回所述偏振分光器；第一分束器、第二分束器、位置探测器，所述第二偏振光倾斜入射到被测物体表面后，通过所述第一分束器和所述第二分束器分别形成第一光斑和第二光斑，所述位置探测器用于探测所述第一光斑和所述第二光斑的位置信息...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李术新，孙刚，段立峰，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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