【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种控制液晶扩散速度的方法，关闭真空腔，对上基板和下基板进行对盒，并且随着上基板下压位置的变化按照最佳位置-压力曲线施加与当前下压位置相对应的压力进行压盒，对液晶的扩散速度进行粗调节；向真空腔充入最佳扩散温度的气体进行冷却，对液晶的扩散速度进行微调节。压盒过程中根据上基板的下压位置调节压力的大小，进而控制液晶的扩散速度，液晶在压力作用下进行快速的扩散，但是当液晶扩散到接近封框胶的位置时，要打开真空腔，通过充入最佳扩散温度的气体进行冷却，减慢其扩散速度，进而对液晶的扩散速度进行微调节，避免其扩散到封框胶的位置与封框胶发生反应而导致断胶，防止发生液晶泄漏的现象。【专利说明】一种控制液晶扩散速度的方法、系统及压盒设备
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种控制液晶扩散速度的方法、系统及压盒设备。
技术介绍
真空压盒工艺是液晶面板制作流程中重要的步骤，需要在密闭的真空腔腔体内进行对盒和压盒，通过上定盘和下定盘分别吸附阵列基板(Thin Film Transistor,即TFT基板)和彩膜基板(Color Filter，即CF基板)...
【技术保护点】
一种控制液晶扩散速度的方法，其特征在于，所述方法包括：S1、关闭真空腔，上基板和下基板进行对盒，随着所述上基板下压位置的变化按照最佳位置?压力曲线施加与当前下压位置相对应的压力进行压盒，对液晶的扩散速度进行粗调节；S2、向所述真空腔充入最佳扩散温度的气体进行冷却，对液晶的扩散速度进行微调节。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：井杨坤，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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