衬底分析用喷嘴制造技术

本发明专利技术涉及一种使用在用于分析微量金属等分析对象物的衬底分析器件的衬底分析用喷嘴，且提供一种可确实地回收分析液的衬底分析用喷嘴的构造。本发明专利技术的衬底分析用喷嘴是由双重管喷嘴所构成，在以送出至喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在喷嘴本体外周的外管；喷嘴本体具有用于将分析液保持在前端的外缘朝前端方向突出的凹状端面、及用于送出及抽吸分析液的细管，细管配置在喷嘴本体的凹状端面中央，且使细管的前端表面比细管剖面的表面积更大。

【技术实现步骤摘要】
衬底分析用喷嘴
本专利技术涉及一种使用于衬底分析器件的衬底分析用喷嘴，该衬底分析器件用于分析包含在衬底的微量金属等分析对象物。
技术介绍
就分析半导体晶片等衬底所含的金属、有机物质等分析对象物、或附着于衬底表面的分析对象物、例如Na、Mg、Al等分析器件而言，一般使用将形成在衬底的硅氧化膜或氮化膜等予以蚀刻的气相分解器件、及将残存在蚀刻后的衬底上的分析对象物予以回收的衬底分析用喷嘴。就使用这些器件的分析手法而言，首先将衬底载置在VPD处理室等，再导入氟化氢等蚀刻气体并对衬底的形成膜进行蚀刻。然后，通过衬底分析用喷嘴，将微量的分析液送出至经蚀刻过的衬底，以所送出的分析液扫掠衬底上。由于衬底上的分析对象物移动至分析液中，因此若以喷嘴抽吸所扫掠的分析液，则能以微量的分析液来回收分析对象物，且进行精确度佳的分析。在该种衬底分析器件中，已提出有一种由双重管喷嘴所构成的衬底分析用喷嘴(参照例如专利文献1)，该双重管喷嘴包含：用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体；及配置在喷嘴本体外周的外管。在该双重管喷嘴中，在将分析液从喷嘴本体的前端送出至衬底上，且以所送出的分析液扫掠衬底表面后，从喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收。然后，也可通过以下的任一情形来进行衬底分析：利用被供给至喷嘴本体与外管之间的蚀刻气体，一面蚀刻衬底，一面以分析液同时扫掠衬底表面的情形；及利用另外的VPD处理室预先蚀刻衬底表面后，将双重管喷嘴安装在该蚀刻后的衬底表面，且将喷嘴本体与外管之间设成真空状态，同时以分析液扫掠衬底表面的情形。依据该双重管喷嘴，可实现能进行用于分析衬底所含的金属、有机物质等分析对象物所需的蚀刻工序及回收工序两工序的衬底分析器件，且也可有效地防止在分析液的回收时期的分析液的脱落。(先前技术文献)(专利文献)专利文献1：日本特开2011-232182号公报
技术实现思路
(专利技术所欲解决的课题)图4及图5显示以往所使用的衬底分析用的双重管喷嘴的概略剖面图。在对在衬底W上形成有氧化膜等衬底进行分析时，衬底分析如图4所示，具有在喷嘴本体100的外周配置有外管200的双重管构造的喷嘴T。衬底的蚀刻通过在喷嘴本体100与外管200之间的150朝喷嘴前端方向供给的蚀刻气体(如箭头所示)来进行。通过该蚀刻处理，去除衬底表面的氧化膜等，而成为衬底本身的表面露出的状态。接着，如图5所示，通过进行分析液D的供给、回收的喷嘴本体100所具有的细管101，将分析液D供给至喷嘴本体的前端侧。进行衬底的旋转或喷嘴T的移动等，通过保持在喷嘴本体的前端侧的分析液D，使位于衬底W的分析对象物溶解于分析液D。此时，通过设置在外管200的排气机构(未图标)，将喷嘴本体100与外管200之间的150设为减压环境，而成为容易保持分析液D的状态，而可防止分析液的脱落。然后，从细管101抽吸分析液D并予以回收，对该分析液D进行分析。依据该双重管喷嘴的构造，通过将蚀刻气体供给至喷嘴本体100与外管200之间的150，即可利用相同的衬底分析器件进行衬底的蚀刻处理及分析液的供给回收处理。然而，在该种便利性高的双重管喷嘴中，也会产生以下的新课题。图6显示回收分析液D时的喷嘴前端部分的状态。如该图6的上图(A)所示，即使通过细管101进行抽吸而回收分析液D，仍会产生在外管200的前端部分或喷嘴本体100的前端部分与衬底W之间残存分析液D的现象。图6的下图(B)显示从下方观看到双重管喷嘴时其前端侧的概略图。如该图6(B)所示，细管的前端比起喷嘴本体100或外管200的前端，细管的前端的端面的表面积较小，因此外管200及喷嘴本体100的前端部分与衬底W之间的表面张力，是比细管101的前端部分与衬底W之间的表面张力更大，且会产生分析液D残存在外管200前端与衬底W之间、或喷嘴本体100的前端与衬底W之间的现象。针对此问题，虽可考虑通过仅使细管比喷嘴本体或外管更接近衬底，而使细管与衬底间的表面张力比喷嘴本体或外管与衬底间的表面张力更大的方法，但在此情形下，喷嘴本体及外管与衬底间的距离会在扫掠中变得过大，而无法将回收液保持在喷嘴内，且当使喷嘴本体及外管过于接近衬底时，会产生细管接触到衬底的不良情形。即，在现有技术的双重管喷嘴构造中，会产生难以回收全部的分析液的现象。如此，分析液无法全部回收的现象在分析微量的分析对象物时会影响分析精确度，而有改善该双重管喷嘴的必要。因此，本专利技术的目的在于提供一种衬底分析用喷嘴的构造，是针对使用在用于分析微量金属等分析对象物的衬底分析器件的衬底分析用喷嘴，可确实地回收分析用的分析液。(解决课题的手段)为了要解决所述课题，本专利技术涉及一种衬底分析用喷嘴，该衬底分析用喷嘴由双重管喷嘴所构成，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在喷嘴本体外周的外管，所述衬底分析用喷嘴在以送出至所述喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从所述喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收；喷嘴本体具有用于将分析液保持在前端的外缘朝前端方向突出的凹状端面、及用于送出及抽吸分析液的细管，细管配置在喷嘴本体的凹状端面中央，且使细管的前端表面比细管剖面的表面积更大。依据本专利技术，在将分析液抽吸并予以回收时，由于细管的前端表面的表面积变大，因此细管前端与衬底的相对的面积会变大，结果造成细管前端与衬底之间的表面张力比喷嘴本体或外管与衬底间的表面张力更大，而容易将分析液导入细管前端与衬底之间。因此，在扫掠中使喷嘴本体与衬底的距离变窄，且在回收分析液时，即便使衬底与双重管喷嘴整体的前端的距离变宽，而成为使喷嘴本体及外管与衬底间的表面张力变弱的状态，若为本专利技术的衬底分析用喷嘴，则细管的前端表面的表面积也会变大，因此可确实地回收分析液。就使细管的前端表面的表面积变大的方法而言，有一种在细管的前端部分设置可安装在细管外周的环状的矩形板或圆板等，或对细管的前端部分进行加工而使表面积变大的例子，如将细管前端加工成凸缘形状的方法等。在本专利技术的衬底分析用喷嘴中，细管的前端优选为凸缘形状。细管的剖面形状虽然成为所谓的环状，但为了使该细管的前端表面比细管的剖面积更大，可通过使该细管的剖面形状的环状宽度变大的方式来应对。即，将细管的前端作成为凸缘形状时，可简单地使细管的前端表面的表面积比细管的剖面积更大，且也可容易地进行该表面积的大小的调整。在本专利技术中，细管的形状虽无特别的限定，但通常成为圆筒型的细管。在为该圆筒型的细管时，决定该细管的前端表面的表面积的凸缘形状的直径，优选为设为喷嘴本体的凹状端面中的内径的一半以下。当凸缘形状的直径过大时，会有无法将分析液充满在由喷嘴本体的凹状端面所形成的圆顶状的空间的倾向。本专利技术的衬底分析用喷嘴特别适用在利用相同的衬底分析器件来进行衬底的蚀刻处理及分析液的供给回收处理的情形。本专利技术的衬底分析用喷嘴并未限定可分析的衬底的种类，但特别适用在晶片等半导体衬底的分析。(专利技术的效果)如以上说明，本专利技术的衬底分析用喷嘴可确实地回收分析液，因此可高精确度地将微量的金属等分析对象物进行分析。附图说明图1是本专利技术实施例的衬底分析用喷嘴的概略剖面图。图2是本专利技术实施例的衬底分析用喷嘴的概略剖面图。图3是本专利技术实施例的衬底分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种衬底分析用喷嘴，是由双重管喷嘴所构成，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在所述喷嘴本体外周的外管，所述衬底分析用喷嘴在以送出至所述喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从所述喷嘴本体前端抽吸分析液并将分析对象物予以回收；所述喷嘴本体具有用于将分析液保持在前端的外缘朝前端方向突出的凹状端面、及用于送出及抽吸分析液的细管；所述细管配置在所述喷嘴本体的凹状端面中央，且使所述细管的前端表面比所述细管剖面的表面积更大。

【技术特征摘要】
2012.06.14 JP 2012-1346291.一种衬底分析用喷嘴，是由双重管喷嘴所构成，该双重管喷嘴包含用于使分析液送出至包含分析对象物的衬底上及抽吸该分析液的喷嘴本体、及配置在所述喷嘴本体外周的外管，所述衬底分析用喷嘴在以送出至所述喷嘴本体前端的分析液扫掠衬底表面后，从...

【专利技术属性】
技术研发人员：川端克彦，李晟在，国香仁，铃木淳司，
申请(专利权)人：埃耶士株式会社，
类型：发明
国别省市：