基板用无碱玻璃和基板用无碱玻璃的制造方法技术

根据本发明专利技术，可以在对制造后(成形、缓慢冷却、切割后)的基板用无碱玻璃不实施作为后工序的加热处理的情况下，得到板厚为0.1～0.3mm且压缩率为9ppm以下的基板用无碱玻璃。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】根据本专利技术，可以在对制造后(成形、缓慢冷却、切割后)的基板用无碱玻璃不实施作为后工序的加热处理的情况下，得到板厚为0.1～0.3mm且压缩率为9ppm以下的基板用无碱玻璃。【专利说明】
本专利技术涉及适合作为各种显示器用基板玻璃、光掩模用基板玻璃且板厚度薄且压缩率极低的基板用无碱玻璃，以及基板用无碱玻璃的制造方法。
技术介绍
以往，各种显示器用基板玻璃、特别是在表面形成金属或氧化物薄膜等的玻璃中，碱金属离子会向薄膜中扩散而使膜特性劣化，因此使用无碱玻璃。另外，在薄膜形成工序中在暴露于高温下时，为了将与玻璃的变形和玻璃的结构稳定化相伴的尺寸变化抑制到最低限度，要求玻璃的压缩率(C)极低，具体而言，要求玻璃的压缩率(C)为9ppm以下。另外，由于对显示器要求减轻重量，近年来正在寻求基板玻璃的薄板化。具体而言，正在寻求将板厚设为0.1~0.3mm。各种显示器用基板玻璃可以通过浮法成形、融合成形来得到，但在成形为板厚 0.1~0.3mm的基板玻璃时，基于以下的理由，需要将玻璃带自成形装置的引出量(以下，在本说明书中简称为“引出量”)增大。(I)在成形为板厚0.1~0.3mm的基板玻璃时，与成形为板厚更厚的基板玻璃相t匕，需要将成形时的温度增高。如果引出量小，则由于成形装置中的基准温度(浮法成形的情形下为浮抛窑的基准温度)降低、来自供给至成形装置的熔融玻璃的带入显热减少，基板玻璃的成形有可能变得困难，因此，需要将引出量增大。(2)在成形为板厚0.1~0.3mm的基板玻璃时，如果引出量小，则由于重力的影响，有可能在从成形装置引出的玻璃带中产生挠曲，因此，需要将引出量增大。另外，作为对增大引出量的代替，通过减少熔融玻璃向成形装置的供给量，也可以防止在从成形装置引出的玻璃带中产生挠曲，但此时，会使原料向熔解槽中的投入量减少，在使熔解槽稳定运转方面，原料投入量的变更是不期望的。另外，在减少熔融玻璃向成形装置的供给量的情形下，由于自供给至成形装置中的熔融玻璃的带入显热减少，基板玻璃的成形有可能变得困难。(3)在浮法成形的情形下，如果引出量小，则与浮抛窑中的熔融锡的接触时间增加，因此，熔融锡有可能渗透到玻璃带的下表面中。如果锡渗透到玻璃带的下表面中，则所制造的基板玻璃的透射率降低，因此不优选。因此，需要将引出量增大。另外，基板玻璃的板厚度越薄，锡渗透对透射率的影响越大，因此，在成形为板厚0.1~0.3mm的基板玻璃时特别成为问题。(4)在浮法成形的情形下，如果引出量小，则玻璃带在浮抛窑中的停留时间增加，因此，有可能在玻璃带的上表面中起因于浮抛窑的锡缺陷增加。即，有可能从熔融锡蒸发的锡成分的冷凝物朝玻璃带上表面的附着增加。因此，需要将引出量增大。另外，虽然起因于浮抛窑的锡缺陷可以通过研磨除去，但在板厚为0.1~0.3mm的基板玻璃的情形下，有可能无法得到对于除去锡缺陷而言充分的研磨余地。但是，如果增大引出量，则具有缓慢冷却工序中的冷却速度变快，所制造的基板玻璃的压缩率(C)变高的倾向。在制造板厚为0.1~0.3mm的基板玻璃的情形下，要求将引出量设为250m/小时以上、优选300m/小时以上、更优选350m/小时以上。在设为这样的引出量的情形下，很难使所制造的基板玻璃的压缩率(C)为9ppm以下。专利文献I中记载了:在预定温度条件下对制造后的玻璃板进行加热处理，然后在预定的条件下进行冷却，由此使玻璃板的热收缩率、即压缩率降低的方法。但是，专利文献I所记载的方法中，要对制造后的玻璃实施作为后工序的加热处理，因此，至得到最终成品的基板玻璃为止的工序增加，引起基板玻璃的成品率降低，并且需要用于实施加热处理的设备，另外，从加热处理所需要的能量的观点来看也不优选。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9-278464号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题为了解决上述现有技术的问题，本专利技术的目的在于提供板厚度薄且压缩率极低的。解决问题的手段为了实现上述目的，本专利技术提供:一种基板用无碱玻璃的制造方法，以氧化物基准的质量百分比计，所述无碱玻璃包含如下作为玻璃基质组成:SiO250~66%、Al2O310.5 ~24%、B2O3O~12%、 MgO0~8%、CaOO~14.5%、SrOO ~24%、BaOO~13’5%、MgO+CaO+SrO+BaO9 ~29.5%、 ZrO20'5%，所述无碱玻璃的压缩率(C)为9ppm以下,板厚为0.1~0.3mm,所述方法的特征在于:包括将玻璃原料熔解得到熔融玻璃的熔解工序，将通过所述熔解工序得到的熔融玻璃成形为板状的玻璃带的成形工序，和将通过所述成形工序成形的所述玻璃带缓慢冷却的缓慢冷却工序，其中所述成形工序中的所述玻璃带的引出量设定为250m/小时以上，在将所制造的基板用无碱玻璃的β-ΟΗ值(mm1)设为W，将所述缓慢冷却工序中的、从所制造的基板用无碱玻璃的退火点+50°C至450°C的温度范围中所述玻璃带的平均冷却速度(V /分钟)设为V时，调节所述W和V以满足下式(I):W≤ aV+b(l)在式⑴中，a和b分别满足下式⑵、(3): a=-0.0002Y-0.0007 (2)b=0.0335Y+0.1894(3)在式(2)、(3)中，O< Y ≤ 9。专利技术效果根据本专利技术，可以在对制造后(成形、缓慢冷却、切割后)的基板用无碱玻璃不实施作为后工序的加热处理的情况下，得到板厚为0.1~0.3mm且压缩率为9ppm以下的基板用无碱玻璃。利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃，在使用该基板用无碱玻璃制造各种显示器的过程中，在玻璃表面形成金属或氧化物薄膜等时，不存在碱金属离子向薄膜中扩散而使膜特性劣化的担心。利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃，由于压缩率为9ppm以下的极低值，因此，在使用该基板用无碱玻璃制造各种显示器的过程中实施的薄膜形成工序中，在曝露于高温下时，可以将与玻璃的变形和玻璃的结构稳定化相伴的尺寸变化抑制到最低限度。出于这些理由，利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃适合作为各种显示器用基板玻3? ο另外，利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃，由于板厚为0.1~0.3mm的薄板，因此，适合作为寻求重量减轻的显示器用基板玻璃。利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃，也可以应用于显示器用基板玻璃以外的用途。例如，也可以作为光掩模用基板玻璃使用。【专利附图】【附图说明】图1是描绘缓慢冷却范围中玻璃的平均冷却速度(V)与玻璃的β -OH值(W)的关系的图表。图2是使用式(2)的规定得到的图表。图3是使用式(3)的规定得到的图表。【具体实施方式】以下，对本专利技术的基板用无碱玻璃的制造方法进行说明。首先，先示出利用本专利技术制造的基板用无碱玻璃(以下称为“本专利技术的基板用无碱玻璃”)的组成。本专利技术的基板用无碱玻璃以氧化物基准的质量百分比(质量％)表示包含如下作为玻璃基质组成:SiO250 ~66%、Al2O310.5~24%、B20.,0~12%、 MgOO~8 %、CaO0-14.5%.SrOO ~24%、BaO0-13.5%,MgO+CaO+SrO+BaO9 ~29.5%、ZrO20-5% ο以下，对各成分的组成范围进行说明。通过将SiO2设定为50质量％(以下简记为“％”)以上，基板用玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：辻村知之，西沢学，樋口诚彦，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：