一种带式滚筒多粒平面磨抛机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒上下移动的升降装置I，所述抛光装置包括抛光滚筒、驱动抛光滚筒转动的驱动机构II、驱动抛光滚筒上下移动的升降装置II。本实用新型专利技术采用输送带连续不停送料的方式进行研磨抛光加工颗粒产品的平面，达到镜面效果，可根据颗粒产品的大小在输送带上方依次放置多个研磨装置和抛光装置，其加工效率高、产量大、生产成本低，构造简单精巧，消耗电量底，符合国家节能减排的政策需求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及玻璃、陶瓷或水晶等颗粒状饰品上下大小平面加工的一种机械，特别是玻璃水晶钻石等饰品加工的机械。 
技术介绍
现有加工玻璃水晶钻石饰品平面的机械是：研磨抛光用的是平板式圆盘。流程是：采用多工位回转断续跳跃式，第一步装夹产品，第1次转动到粗磨盘下方停止，上升粗磨，磨好下降，第2次转动到细磨盘下方停止，上升细磨，磨好再下降，第3次转动到粗抛盘下方停止，上升粗抛，抛好下降，第4次转动到细抛盘下方停止，上升细抛，抛好下降，回转到原位。相比缺点：能耗大，质量不稳定，产量低，机械造价高。 
技术实现思路
本技术所要解决的问题是，针对上述技术的不足，设计出一种结构合理，加工效率高，节能的连续带式滚筒多粒平面磨抛机。 一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒上下移动的升降装置I，所述抛光装置包括抛光滚筒、驱动抛光滚筒转动的驱动机构II、驱动抛光滚筒上下移动的升降装置II。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：包括输送带(1)、至少一个位于输送带(1)上方的研磨装置(2)、至少一个位于输送带(1)上方的抛光装置(3)，所述研磨装置(2)和抛光装置(3)沿输送带(1)输送方向依次排列，所述研磨装置(2)包括研磨滚筒(21)、驱动研磨滚筒(21)转动的驱动机构I(22)、驱动研磨滚筒(21)上下移动的升降装置I，所述抛光装置(3)包括抛光滚筒(31)、驱动抛光滚筒(31)转动的驱动机构II(32)、驱动抛光滚筒(31)上下移动的升降装置II。

【技术特征摘要】
1.一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：包括输送带(1)、至少一个位于输送带(1)上方的研磨装置(2)、至少一个位于输送带(1)上方的抛光装置(3)，所述研磨装置(2)和抛光装置(3)沿输送带(1)输送方向依次排列，所述研磨装置(2)包括研磨滚筒(21)、驱动研磨滚筒(21)转动的驱动机构I(22)、驱动研磨滚筒(21)上下移动的升降装置I，所述抛光装置(3)包括抛光滚筒(31)、驱动抛光滚筒(31)转动的驱动机构II(32)、驱动抛光滚筒(31)上下移动的升降装置II。 
2.根据权利要求1所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述输送带(1)上放置有多个用于放置待加工产品的板(4)。 
3.根据权利要求1所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述研磨装置(2)和／或抛光装置(3)旁设有喷淋机构。 
4.根据权利要求1、2或3所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述升降装置I包括多条竖直安装在机架(7)上的丝杆I(23)、用于放置研磨滚筒(21)的支架I(24)以及放置在支架I(24)上的电机I(25)，所述支架I(24)通过带齿螺母I(27)安装在丝杆I(23)...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘皇文，
申请(专利权)人：潘皇文，
类型：实用新型
国别省市：