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本实用新型公开了一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒...
该专利属于潘皇文所有，仅供学习研究参考，未经过潘皇文授权不得商用。

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