用于图像扫描系统的预测聚焦技术方案

本发明专利技术公开了一种用于在图像扫描系统中实现预测聚焦的装置。该装置包括光路径长度改变板和图像传感器。在一个实施例中，该板包括多个路径长度改变部件。该板还包括中心区域，该中心区域构造成在穿过该中心区域的光路径长度中提供基本恒定的变化，使得穿过其中的图像可被聚焦捕获。由于具有光接收表面，每个路径长度改变部件构造成在穿过该光接收表面的光路径长度中提供基本不均匀的改变，使得图像的聚焦平面倾斜，这样投射到成像传感器上的图像可被用于预测实现聚焦所需要的光调节量。通过使用多于一个的路径长度改变部件，可实现多于一个聚焦平面倾斜方向的预测聚焦。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于在图像扫描系统中实现预测聚焦的装置，该图像扫描系统构造成通过将样本分成视场(FoV)阵列而扫描该样本，其中聚焦单独施加到每个FoV上，并且其中作为FoV行设置的FoV阵列以光栅扫描方式进行扫描，该装置包括：光路径长度改变板，该光路径长度改变板在板上包括多个路径长度改变部件，该板定位成基本垂直于该图像扫描系统的光轴，借此在沿着光轴的方向上行进通过该板的单个光束在由该板引入的光路径长度上经过一个变化；以及成像传感器，该成像传感器定位成基本垂直于光轴，用于感测在光束行进通过该板之后由这种光束形成的图像；其中：该路径长度改变部件定位成基本远离该板中心，以便形成该板的中心区域；每个路径长度改变部件具有光接收表面并构造成当第一多个光束在沿着光轴的方向上行进到光接收表面时，在穿过该光接收表面的光路径长度上提供基本不均匀的变化，这样由第一多个光束形成的第一图像的聚焦平面以相对于成像传感器一个倾斜角度而旋转，该第一图像的聚焦平面或者绕着第一参考轴或者绕着第二参考轴进行旋转，其中第一参考轴垂直于光轴，第二参考轴既垂直于光轴也垂直于第一参考轴，借此使得由第一多个光束形成并投射到成像传感器上的第一投射图像用于预测实现聚焦所需的光调节量；以及该中心区域和该路径长度改变部件位于该板上，并且这样进行构造：出现在第一FoV上的图像由中心区域接收，出现在第二FoV上的图像由一个路径长度改变部件的光接收表面接收，其中所述第一FoV是样本上的一个FoV，第二FoV与样本上的第一FoV相邻，借此当出现在第一FoV上的图像被捕获以用于成像时，可以使得在穿过该板之后的第二FoV上出 现的图像基本同时由成像传感器捕获，用于预测在第二FoV上出现的图像实现聚焦所需要的光调节量。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴晓华，
申请(专利权)人：香港应用科技研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：