【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种MOCVD设备，其特征在于，包括：反应腔体，包括腔体侧壁和腔体侧壁下方的腔体底板；喷淋头，设置于反应腔体顶部，所述喷淋头具有出气面，所述出气面用于向下方的反应区域提供反应气体；托盘，设置在所述喷淋头和反应区域的下方；喷淋头升降装置，与所述喷淋头相连接，所述喷淋头提升装置用于提升或降低喷淋头在反应腔体中的高度，以调整所述喷淋头与托盘之间的间距；腔体密封件，设置于所述反应腔体顶部，用于在提升或降低喷淋头在反应腔体中的高度时，使得所述喷淋头与所述腔体侧壁形成密封连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈勇，范玉川，
申请(专利权)人：光垒光电科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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