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本发明提供MOCVD设备以及托盘和喷淋头间距的调整方法，所述设备包括：反应腔体，包括腔体侧壁和腔体侧壁下方的腔体底板；喷淋头，设置于反应腔体顶部，所述喷淋头具有出气面；托盘，设置在所述喷淋头和反应区域的下方；喷淋头升降装置，与所述喷淋头相连...
该专利属于光垒光电科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光垒光电科技（上海）有限公司授权不得商用。

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