微流控芯片的激光加工方法技术

技术编号:9332962 阅读:136 留言:0更新日期:2013-11-13 12:21
本发明专利技术提出一种微流控芯片的激光加工方法,其特征在于该方法包括以下特征步骤:①将代加工的高分子聚合物芯片清洗干净、吹干;②将一张1~30微米厚度的高分子薄膜涂覆于待加工表面;③使用二氧化碳激光设备,在聚合物芯片上雕刻加工出通孔、通道、混合器微等结构;④将高分子薄膜从芯片表面剥离,获得加工有微结构的微流控芯片。使用本发明专利技术所提出的方法进行聚合物微流控芯片的加工,不仅能够最大程度上改善重铸物的影响,而且能够保证芯片加工表面的清洁度。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
微流控芯片的激光加工方法,其特征在于该方法包括以下特征步骤:①将代加工的高分子聚合物芯片清洗干净、吹干;②将一张1~30微米厚度的高分子薄膜涂覆于待加工表面;③使用二氧化碳激光设备,在聚合物芯片上雕刻加工出通孔、通道、混合器微等结构;④将高分子薄膜从芯片表面剥离,获得加工有微结构的微流控芯片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:叶嘉明
申请(专利权)人:苏州扬清芯片科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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