【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，具有：基板保持部，其在使基板的主面朝向上侧的状态下保持所述基板；处理液供给部，其向所述基板的所述主面的中央部供给处理液；基板旋转机构，其使所述基板与所述基板保持部一起旋转；腔室，其在内部空间容置所述基板保持部；压力变更部，其变更所述腔室的所述内部空间的压力；控制部，其通过对所述处理液供给部、所述基板旋转机构及所述压力变更部进行控制，来在使所述腔室的所述内部空间处于减压环境的状态下，一边使所述基板旋转，一边向所述主面供给所述处理液，由此利用所述处理液覆盖所述主面。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：桝原弘史，新居健一郎，宫城雅宏，远藤亨，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：
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