【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种超导石墨合成片,其特征在于:其制备原料包括半导体碲化物,优选N型,优选纳米级,还包括石墨材料,优选纳米级。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:何千舟,
申请(专利权)人:天津安品有机硅材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
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