一种自带真空吸附的机器视觉平台制造技术

本实用新型专利技术涉及一种自带真空吸附的机器视觉平台，采用双工位系统，由光源底板、两个回型灯、两个真空吸附台组成，每个工位都独立具备一个回型灯和真空吸附台，工作时双工位轮流切换，确保检测工作快速高效，底部回型灯可显著提高检测精度。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种自带真空吸附的机器视觉平台，由光源底板(1)、两个回型灯(2)、两个真空吸附台(3)组成，两个回型灯(2)并排固定，真空吸附台(3)嵌在回型灯(2)中间的方形槽内，光源底板(1)固定在两个回型灯(2)上方，光源底板(1)表面开有两个方形槽，固定的同时方形槽扣住真空吸附台(3)，并且真空吸附台(3)上表面与光源底板(1)上表面处于同一水平位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李文，
申请(专利权)人：无锡奥特维科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：