线路积层板的多层线路结构的制作方法技术

技术编号:9201328 阅读:241 留言:0更新日期:2013-09-26 04:52
一种线路积层板的多层线路结构的制作方法,该方法包含:金属层形成步骤、图案化步骤、纳米镀覆层形成步骤、一覆盖层形成步骤、钻孔步骤、镀层步骤等,主要藉由线路金属层的外表面上形成的纳米镀覆层,与覆盖层及/或基板的化学键结力,而改善界面接合效果,而不需将线路金属层表面粗糙化,进而不用预留线路宽度来进行尺寸补偿,可以增加线路密度,能够在同一面积制作更密集的线路,进而堆栈而形成多层线路结构。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种线路积层板的多层线路结构的制作方法,其特征在于,该方法包含:一金属层形成步骤,在一基板上的上下表面各形成一金属层;一图案化步骤,利用一影像转移方式将各该金属层图案化为一线路金属层;一纳米镀覆层形成步骤,在各该线路金属层的外表面上形成一纳米镀覆层,该纳米镀覆层具有5~40nm的厚度;以及一覆盖层形成步骤,在该基板上形成一覆盖层,该覆盖层为一黏结胶或一防焊层,以将该线路金属层及该纳米合金镀覆层覆盖,其中该基板的上下表面的至少其中之一为一平坦表面,且该线路金属层的表面、该基板的该平坦表面及该纳米镀覆层的粗糙度Ra<0.35μm、Rz<3μm,且在1000倍光学显微镜下以剖面方式检视,无法判断出粗糙度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐润忠林祈明叶佐鸿陈亚详
申请(专利权)人:景硕科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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