【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种导电图样薄膜基材制造方法，提供在不经过中介层的辅助下结合具有图样本体与薄膜层的二异向材质，其包含：产生熔射源，以进行加热操作与喷射操作其中一种；对薄膜材质施加该加热操作，以使该薄膜材质进入熔射与半熔射至少其中一种状态而将该薄膜材质转换成为薄膜分子；在本体上根据该图样形成图样层；以及熔射源通过喷射操作将薄膜分子喷射至本体，以在该图样层形成具有薄膜分子的薄膜层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张有谅，林毅芳，刘松哲，
申请(专利权)人：张有谅，吴首宝，吕朝福，丁建春，何易学，林毅芳，刘松哲，
类型：发明
国别省市：
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