光学膜及其制备方法技术

技术编号:9170040 阅读:117 留言:0更新日期:2013-09-19 18:20
本发明专利技术涉及一种光学膜及其制备方法。该光学膜具有抗反射自清洁的功能。该光学膜的制备步骤是:在透明高分子膜片表面制备次波长微结构来达到抗反射光学表面,再利用CF4电浆对所述高分子膜片表面进行改质,形成疏水官能基结构。继而就获得抗反射自清洁功能的光学膜片。此工艺简单,可重复,且成本较低,可满足市场上对抗反射自清洁产品的需求。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光学膜的制备方法,其包括以下步骤:提供一表面带有一层铝金属膜的基板;利用电解液对该铝金属膜进行电解,形成表面带有多个锥状氧化铝微孔洞的第一模板;对该第一模板进行自组装单分子层的表面处理以获得第二模板;利用该第二模板对透明高分子膜热压转印以获得具锥状微孔洞的膜片;及利用电浆机对该高分子膜片表面进行疏水改质,以在该高分子膜片表面形成疏水官能基结构层,从而获得该光学膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许嘉麟
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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