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本发明涉及一种光学膜及其制备方法。该光学膜具有抗反射自清洁的功能。该光学膜的制备步骤是：在透明高分子膜片表面制备次波长微结构来达到抗反射光学表面，再利用CF4电浆对所述高分子膜片表面进行改质，形成疏水官能基结构。继而就获得抗反射自清洁功能的...该专利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。