处理装置和处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且，第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液，第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。

【技术实现步骤摘要】
处理装置和处理方法相关申请的引用本申请基于并要求2012年3月14日在先提出的日本专利申请2012－057939号的优先权，在此引用并包含其全部内容。
在此说明的实施方式涉及处理装置和处理方法。
技术介绍
在半导体装置或平板显示器等电子设备的制造中，向板状的被处理物(例如，晶片或玻璃基板等)的表面供给处理液来进行各种处理。该情况下，若被处理物的大小变大，则处理液的消耗量就会增多。因此，已提出了一种回收已供给到被处理物表面上的处理液并对回收的处理液进行再利用的技术。但是，在回收的处理液中含有各种物质，有时用过滤器等也无法去除。因此会有通过再利用回收的处理液而被处理物的表面被污染的危险。该情况下，还考虑在利用回收的处理液进行了处理之后，向被处理物的表面供给纯水来去除污染物质的方法，但是有时仅向被处理物表面供给纯水也不能将污染物质去除干净。此外，当反复进行处理液的再利用时，还会产生对处理有效的成分逐渐变少等而处理不充分或处理不均等的危险。当这样地利用回收的处理液进行处理时，存在无法进行被处理物的恰当的处理的危险。
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题在于，提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备：输送部，输送被处理物；回收部，回收已供给到由所述输送部输送的所述被处理物的处理面上的第一处理液；第一喷嘴，将由所述回收部回收的所述第一处理液向所述被处理物的处理面喷出；第二喷嘴，设置在所述第一喷嘴的被处理物输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出第二处理液，所述第二处理液是还未用于处理的新的处理液；以及第三喷嘴，设置在所述第二喷嘴的被处理物输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出清洗液。而且，所述第二喷嘴朝着与相对所述被处理物输送方向垂直的方向相比向所述被处理物输送方向的下游侧喷出所述第二处理液，所述第三喷嘴朝着与相对所述被处理物输送方向垂直的方向相比向所述被处理物输送方向的上游侧喷出所述清洗液。专利技术效果：本专利技术能够提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。附图说明图1是用于例示第一实施方式涉及的处理装置的结构的模式图。图2是用于例示比较例涉及的喷嘴190和喷嘴200的模式图。图2(a)是用于例示喷嘴190和喷嘴200的喷出方向的模式图，图2(b)是用于例示可涂性和置换性的模式图。图3是用于例示本实施方式涉及的喷嘴19和喷嘴20的模式图。(a)是用于例示喷嘴19和喷嘴20的喷出方向的模式图，图(b)是用于例示可涂性和置换性的模式图。图4(a)～(e)是用于对处理液和清洗液的供给位置、被处理物100的输送速度以及可涂性和置换性之间的关系进行例示的模式图。图5是用于对第二实施方式涉及的处理方法进行例示的流程图。具体实施方式以下，参照附图，对实施方式进行例示。另外，在各附图中同样的结构要素上标注同一附图标记并适当地省略详细的说明。[第一实施方式]图1是用于例示第一实施方式涉及的处理装置的结构的模式图。如图1所示，在处理装置1中设置有第一处理部2、第二处理部3和输送部4。第一处理部2回收已供给到被处理物100的处理面100a上的处理液(相当于第一处理液的一例)，并将回收的处理液再次供给到被处理物100的处理面100a上。第二处理部3对已被第一处理部2处理过的被处理物100的处理面100a进行优化。例如，去除通过再利用回收的处理液而附着在被处理物100的处理面100a上的污染物质。此外，减轻通过反复进行处理液的再利用而产生的处理不充分或处理不均等。输送部4从第一处理部2一侧朝着第二处理部3一侧输送被处理物100。例如，输送部4可以沿着被处理物100的输送方向101设置能以支撑着被处理物100的状态进行旋转的多个输送辊4a。将被处理物100在输送辊4a上朝着输送方向101输送。该情况下，通过控制输送辊4a的旋转速度，就能够调整被处理物100的输送速度。此外，虽然省略了图示，但还设置有支撑输送辊4a的旋转轴、控制电机、驱动力传递部和机架等。另外，例示了具有输送辊4a的输送部4，但不只限定于此。例如，可以适当地选择输送机器人或具有支撑被处理物100的带的输送装置等这些能够朝着规定的方向输送被处理物100的装置。下面，对第一处理部2进一步进行例示。在第一处理部2中设置有喷嘴5(相当于第一喷嘴的一例)、喷嘴6、回收部7、清洗液收纳部15和清洗液供给部16。喷嘴5向被处理物100的处理面100a喷出由回收部7回收的处理液。喷嘴5设置在输送辊4a的上方。与被处理物100的处理面100a对置地设置喷嘴5的喷出口5a。喷嘴5对被处理物100的处理面100a从正上方喷出处理液。喷出口5a呈孔状，在输送方向101和正交于输送方向101的方向上设置有多个。喷嘴5对被处理物100的处理面100a的整个区域喷出处理液。喷嘴5喷出处理液的方式可以按照处理目的或处理液种类等适当地变更。例如，喷嘴5可以喷出液状的处理液，也可以喷出雾状等形态的处理液。从喷嘴5喷出的处理液可以根据处理目的或被处理物100的处理面100a的材质等适当地变更。例如，在被处理物100是玻璃基板并且对附着在处理面100a上的金属污染物进行去除的情况下，作为处理液，可以使用氢氟酸(hydrofluoricacid)等。喷嘴6设置在输送辊4a的下方。与和被处理物100的处理面100a相反的面100b对置地设置喷嘴6的喷出口6a。喷嘴6对被处理物100的面100b从正下方喷出清洗液。喷出口6a呈孔状，在输送方向101和正交于输送方向101的方向上设置有多个。在此，从喷嘴5喷出到被处理物100的处理面100a上的处理液，从被处理物100的周边流出，并被捕集部30捕集。这时，从被处理物100的周边流出的使用完的处理液的一部分，有时会附着在输送辊4a上，并且输送辊4a上附着的使用完的处理液会附着在被处理物100的面100b上。该情况下，由于使用完的处理液中含有被去除的物质，因此会有被处理物100的面100b被污染的危险。此外，由于使用完的处理液中含有对处理有效的成分，因此还会有被处理物100的处理面100b被损伤的危险。因此，就要通过从喷嘴6对被处理物100的面100b喷出清洗液来去除附着在被处理物100的面100b上的使用完的处理液。从喷嘴6喷出的清洗液例如可以设为纯水等。从喷嘴6喷出的清洗液可以是常温，也可以是被加热后的。若使用加热后的清洗液，则能够使被处理物100的温度上升，因此能够使处理面100a上的处理效率提高。喷嘴6喷出清洗液的方式可以适当地变更。例如，喷嘴6可以喷出液状的清洗液，也可以喷出雾状等形态的清洗液。回收部7回收已供给到由输送部4输送的被处理物100的处理面100a上的处理液。在回收部7中设置有捕集部30、收纳部8、供给部9和过滤器10。捕集部30捕集从被处理物100的周边流出的使用完的处理液。捕集部30设置在喷嘴6的下方。从而，也捕集已被喷出到被处理物100的面100b上的使用完的清洗液。捕集部30的方式不特殊限定，例如，可以例示具有上端开口的箱状方式的捕集部30。此外，例如，可以将收纳第一处理部2的未图示的壳体等作为捕集部30本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理装置，具备：输送部，输送被处理物；回收部，回收已供给到由所述输送部输送的所述被处理物的处理面上的第一处理液；第一喷嘴，将由所述回收部回收的所述第一处理液向所述被处理物的处理面喷出；第二喷嘴，设置在所述第一喷嘴的输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出第二处理液；以及第三喷嘴，设置在所述第二喷嘴的输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出清洗液，所述第二喷嘴朝着与相对所述输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的下游侧喷出所述第二处理液，所述第三喷嘴朝着与相对所述输送方向垂直的方向相比向所述输送方向的上游侧喷出所述清洗液。

【技术特征摘要】
2012.03.14 JP 2012-0579391.一种处理装置，具备：输送部，输送被处理物；回收部，回收已供给到由所述输送部输送的所述被处理物的处理面上的第一处理液；第一喷嘴，将由所述回收部回收的所述第一处理液向所述被处理物的处理面喷出；第二喷嘴，设置在所述第一喷嘴的被处理物输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出第二处理液；以及第三喷嘴，设置在所述第二喷嘴的被处理物输送方向的下游侧，向所述被处理物的处理面喷出清洗液，所述第二喷嘴朝着与相对所述被处理物输送方向垂直的方向相比向所述被处理物输送方向的下游侧，将所述第二处理液喷出到所述被处理物的处理面上，所述第三喷嘴朝着与相对所述被处理物输送方向垂直的方向相比向所述被处理物输送方向的上游侧，将所述清洗液喷出到所述第二处理液喷出到的同一所述被处理物的处理面上，并且，所述第二喷嘴和所述第三喷嘴被配置成，在所述被处理物的处理面上形成所述第二处理液和所述清洗液相争的区域。2.根据权利要求1所述的处理装置，所述第一处理液中含有的对处理有效的成分和所述第二处理液中含有的对处理有效的成分相同。3.根据权利要求1或2所述的处理装置，所述处理面上的第二处理液的供...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤田博，矶明典，添田胜之，西部幸伸，佐佐木真一，
申请(专利权)人：株式会社东芝，芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：