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石墨基底的晶硅电池片制造技术

技术编号:9144626 阅读:195 留言:0更新日期:2013-09-12 06:00
本发明专利技术的石墨基底晶硅电池片生产技术,是电池片生产领域的一项新技术,主要是将硅粉采用气相、液相或喷涂的方式沉积在经过热解炉反应生成的高纯石墨片上,从而形成带有硅膜的石墨片。其过程不需要铸锭、切片、清洗,更不需要与酸碱反应,只需要高温炉化、结晶、再印刷烧结、检测,最后得到晶硅电池板。比以往的生产工艺工艺简单,同时用料少,设备成本低,将大大提高多晶硅的利用率,减少成本,满足现代社会的需要。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
石墨基底晶硅电池片生产技术,其特征是:将经过西门子法的化学反应得到的硅粉,采用化学沉积或者物理喷涂的方法,沉积或者喷涂在带石墨晶体的石墨片上,形成带有硅膜的石墨片。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王洪举
申请(专利权)人:王洪举江苏晶和新能源有限公司
类型:发明
国别省市:

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