一种具有微结构增透膜的高压LED芯片制造技术

技术编号:9087579 阅读:154 留言:0更新日期:2013-08-29 00:10
本发明专利技术属于半导体发光器件制造领域,具体涉及一种具有微结构增透膜的高压LED芯片,其结构包括蓝宝石衬底、缓冲层、N型层、量子阱层、P型层、P型层上的电极、N型层上的电极、连接桥、ITO层以及覆盖在ITO层上的带有圆柱状微结构的增透膜。本发明专利技术能有效减少LED出光时的反射损耗,同时通过微结构减少由芯片到空气中的光线全反射。同时增透膜本身能抑制芯片本身潮气和杂质的扩散,起到最终的保护作用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有微结构增透膜的高压LED芯片,包括多个发光单元,每个发光单元从下至上依次包括宝石衬底1、缓冲层2、N型层3、量子阱层4、P型层5和ITO层6,每个发光单元还包括P型层上的电极7和N型层上的电极8,相邻发光单元之间的电极通过连接桥9连接,其特征在于每个发光单元还包括覆盖在ITO层上的增透膜10,位于ITO层6上方的增透膜顶面具有圆柱状微结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王洪钟炯生黄华茂吴跃锋
申请(专利权)人:华南理工大学
类型:发明
国别省市:

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