一种改善材料场致发射性能的方法技术

本发明专利技术提供了一种改善材料场致发射性能的方法，其特征在于，具体步骤为：在激光打标机相应的电脑软件中做出点阵图像，设定激光打标机的功率密度，使用所述的激光打标机对场发射阴极材料表面进行激光处理。本发明专利技术用激光扫描式加工方法处理阴极材料表面，在阴极材料表面规则的、纳米尺寸的、大小均等的小孔，增加缺陷点，烧蚀有机物使得场发射电流增大，稳定性增强；场发射开启电压降低；场发射均匀性提高；同时处理后的材料表面形成规则微纳结构，使像素点间隔减小到约1微米，比现有的尺寸缩小近百倍，可将同尺寸显示器的像素点数目提高近百倍进而实现超高分辨显示。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种改善材料场致发射性能的方法，其特征在于，具体步骤为：在激光打标机相应的电脑软件中做出点阵图像，设定激光打标机的功率密度为1W/cm2～10W/cm2，使用所述的激光打标机对场发射阴极材料表面进行激光处理。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴淑贤，薛绍林，
申请(专利权)人：东华大学，
类型：发明
国别省市：