【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种双旋转掩膜版清洗装置，其特征在于，包括用于存放清洗液的清洗槽、用于安装掩膜版的掩膜版支架、掩膜版驱动机构、传动杆以及清洗液搅拌机构，所述掩膜版驱动机构的一端与所述传动杆连接，所述掩膜版驱动机构的另一端与所述掩膜版支架连接，所述清洗液搅拌机构设置于所述清洗槽内，所述掩膜版在所述清洗槽中垂向设置，所述掩膜版位于所述清洗槽的左半侧或者右半侧。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金普楠，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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