成形体、其制备方法、电子装置用部件及电子装置制造方法及图纸

技术编号:9037112 阅读:144 留言:0更新日期:2013-08-15 03:47
本发明专利技术提供成形体、所述成形体的制备方法、含有所述成形体的电子装置用部件、具备所述部件的电子装置,所述成形体为具有阻气层的成形体,其中,所述阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部,在所述表层部中,相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下。本发明专利技术的成形体具有优异的阻气性、透明性和耐弯折性。根据本发明专利技术的成形体的制备方法,可通过一道工序安全、简便地制备上述成形体。本发明专利技术的电子装置用部件可适用于显示器、太阳能电池等电子装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及成形体、其制备方法、含有所述成形体的电子装置用部件及具备所述电子装置用部件的电子装置。
技术介绍
目前,塑料薄膜等高分子成形体因价格低廉、加工性优异而被赋予所希望的功能,用于各种领域。例如,对于食品或药品的包装用薄膜,为抑制蛋白质、油脂等的氧化和变质,保持味道和鲜度,使用防止水蒸气、氧的透过的阻气性塑料薄膜。另外,近年来,对于液晶显示器或电致发光(EL)显示器等显示器,为实现薄型化、轻量化、挠性化等,作为具有电极的基板,研究了使用透明塑料薄膜代替玻璃板。但是,塑料薄膜存在与玻璃板相比易透过水蒸气、氧等,易引起显示器内部元件劣化的问题。为解决此问题,专利文献I中提出了在透明塑料薄膜上层叠由金属氧化物形成的透明阻气层的挠性显示器基板。但是,由于该文献记载的挠性显示器基板为在透明塑料薄膜表面通过蒸镀法、离子镀膜法、溅射法等来层叠由金属氧化物形成的透明阻气层而得的基板,所以若将该基板卷起或弯折,则有阻气层产生裂纹,从而阻气性降低的问题。另外,专利文献2中公开了塑料薄膜和在该塑料薄膜的至少一面上层叠以聚有机硅倍半氧烷为主要成分的树脂层而成的阻气性层叠体。但是,为获得氧·、水蒸气等的阻气性,需要进一步层叠无机化合物层,所以存在工序复杂或成本增加,有使用具有毒性的气体的危险性等问题。专利文献3中公开了在薄膜的至少一面上形成聚硅氮烷膜,对该硅氮烷膜实施等离子体处理,制备阻气性薄膜的方法。但是,在该方法中,存在若使阻气层的厚度为微米级则无法产生充分的阻气性能的问题。例如,记载有若将阻气层的厚度设为0.1 μ m,则水蒸气透过率为0.50g/m2/天。另外,专利文献4中提出了在聚硅氮烷膜中混合丙烯酸类树脂而得的膜,但不具有足够的阻气性。先前技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2000-338901号公报 专利文献2:日本特开2006-123307号公报 专利文献3:日本特开2007-237588号公报 专利文献4:日本特开平7-292321号公报。
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术鉴于上述现有技术而成,其目的在于,提供阻气性、透明性和耐弯折性优异的成形体、其制备方法、含有该成形体的电子装置用部件和具备该电子装置用部件的电子装置。解决课题的手段 本专利技术人为解决上述课题而深入研究,结果发现一种具有阻气层的成形体,上述阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部,在该表层部中,相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下,所述成形体具有优异的阻气性、透明性和耐弯折性。另外,发现这样的成形体可通过向在表面部具有含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层的成形物的上述含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中注入离子,而简便且有效地制备,从而完成本专利技术。这样,根据本专利技术的第I方面,提供下列(1Γ(7)的成形体。(I)成形体,所述成形体为具有阻气层的成形体,其特征在于,所述阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部,在所述表层部中,相对于碳原子、氧原子、 氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下。(2) (I)中记载的成形体,其特征在于,上述阻气层为含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层,在40°C、相对湿度为90%的环境下的水蒸气透过率为lg/m2/天以下。(3) (2)中记载的成形体,其中,相对于聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的总量,丙烯酸类树脂的含量为0.1质量%以上且70质量%以下。(4) (1Γ(3)的任一项中记载的成形体,其特征在于,上述阻气层具有向含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中注入离子而得的层。(5) (4)中记载的成形体,其特征在于,上述离子为将选自氢、氮、氧、氩、氦、氖、氙、氪、硅化合物和烃的至少一种气体离子化而得的离子。(6) (4)或(5)中记载的成形体,其特征在于,在上述含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中具有通过等离子体离子注入法注入离子而得的层。(7) (2Γ(6)的任一项中记载的成形体,其特征在于,上述聚硅氮烷化合物为全氢化聚硅氮烷。根据本专利技术的第2方面,提供下列(8) (11)的成形体的制备方法。(8)成形体的制备方法,所述制备方法为制备上述(2广(7)的任一项中记载的成形体的方法,其中,具有如下的工序:向在表面部具有含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层的成形物的上述含有聚硅氮烷类化合物和丙烯酸类树脂的层的表面部注入离子。(9) (8)中记载的成形体的制备方法,其中,具有如下的工序:向在表面部具有含有聚硅氮烷类化合物和丙烯酸类树脂的层的成形物的上述含有聚硅氮烷类化合物和丙烯酸类树脂的层的表面部,注入选自氢、氮、氧、氩、氦、氙、氖、氪、硅化合物和烃的至少一种气体的离子。(10) (8)或(9)中记载的成形体的制备方法,其特征在于,上述注入离子的工序为通过等离子体离子注入法注入离子的工序。(11) (2Γ(7)的任一项中记载的成形体的制备方法,其特征在于,在将表面部具有含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层的长成形物沿一定方向运送的同时,向上述含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中注入离子。根据本专利技术的第3方面,提供下列(12)的电子装置用部件。(12)电子装置用部件,所述电子装置用部件含有上述(1Γ(7)的任一项中记载的成形体。根据本专利技术的第4方面,提供下列(13)的电子装置。(13)电子装置,所述电子装置具备上述(12)中记载的电子装置用部件。专利技术的效果 本专利技术的成形体具有优异的阻气性、透明性和耐弯折性。本专利技术的成形体可适合用作挠性显示器或太阳能电池等电子装置用部件(例如太阳能电池背板(back sheet))。根据本专利技术的制备方法,可通过一道工序安全、简便地制备具有优异的阻气性、透明性、耐弯折性的本专利技术的成形体。另外,与无机膜成膜相比,可低成本、容易地实现大面积化。本专利技术的电子装置用部件由于具有优异的阻气性、透明性和耐弯折性,所以可适用于显示器、太阳能电池等电子装置。附图说明示出本专利技术中使用的等离子体离子注入装置的示意组成的图。示出本专利技术中使用的等离子`体离子注入装置的示意组成的图。具体实施例方式以下将本专利技术分为I)成形体、2)成形体的制备方法以及3)电子装置用部件和电子装置,进行详细说明。I)成形体 本专利技术的成形体为具有阻气层的成形体,其特征在于,该阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部(在深度方向距表面OnnTlOnm的区域),在该表层部中,相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下。在本专利技术的成形体中,优选上述阻气层为含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层。在本专利技术的成形体的阻气层为含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层的情况下本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:岩屋涉近藤健
申请(专利权)人:琳得科株式会社
类型:
国别省市:

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