【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术的实施例涉及半导体装置及制造方法,更具体地涉及光伏(PV)装置领域。
技术介绍
光伏装置通常包括沉积在基底(例如玻璃)上的多层材料。图1描绘了典型的光伏装置。光伏装置100可以采用玻璃基底105、沉积在基底105上的透明导电氧化物(TCO)层110、由η型半导体材料制成的窗口层115、由半导体材料制成的吸收层120以及金属背接触件125。典型的装置使用碲化镉(CdTe)作为吸收层120并包括玻璃基底105、作为TCO层110的氧化锡(SnO2)或氧化镉锡(Cd2SnO4)和作为窗口层115的硫化镉(CdS)。以示例的方式,基底105上的典型的光伏装置的沉积工艺的顺序为:TC0层110,包括与SnO2和Cd2SnO4中的一种掺杂的η型材料;CdS窗口层115 ;CdTe吸收层120 ;以及金属背接触件125。CdTe吸收层120可以沉积在窗口层115的顶部上。图2中描绘了典型的薄膜光伏装置(例如CdTe装置)的示例性能带图。作为TCO层的F掺杂的SnO2的带隙能被描绘为205,作为缓冲层的未掺杂的SnO2的带隙能被描绘为210,作为窗口层的CdS的带隙能 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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