线性离子阱结构制造技术

技术编号:8981268 阅读:186 留言:0更新日期:2013-07-31 23:18
本发明专利技术提供一种线性离子阱结构,其至少包括:用于连接强射频电压的正极的第一电极;与所述第一电极围合形成离子运行空间且有开口的第二电极,用于连接强射频电压的负极或地;以及贴近所述第二电极外侧设置且有狭缝的第三电极,用于耦合辅助射频电压,其中,所述狭缝相对于所述开口设置。本发明专利技术的优点包括:有效增强离子的稳定性,能提高离子的激发分辨力等。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术质谱分析领域,特别是涉及一种线性离子阱结构
技术介绍
传统的离子阱质量分析器属于旋转对称的双曲面三维离子阱。早期三维离子阱由德国科学家Wolfgang Paul和美国科学家Hans Georg Dehmelt等于1950年代研制并专利化(1989年诺贝尔化学奖)。此时的射频离子阱为三维离子阱,它由两片端盖电极和一个环电极组,可以由数控车床加工而成。由于它具有z轴的旋转对称性,所以称之为三维离子阱。三维离子阱的z轴剖面具有双曲线结构。1990 年代,美国 Finnigan 公司的 Jae Schwartz 和 Michael Senko 以及 John Syka等人发展了二维线性离子阱,并取得了一系列的专利。这种离子阱与之前的三维离子阱的区别在于对称性不同,线型离子阱具有两个垂直的对称面,在形式上更接近于“四极杆”的对称性。在加工方面,线型离子阱采用了技术难度较高的曲面磨床,成本增加较多。线型离子阱的垂直于z轴剖面具有双曲线结构。线型离子阱的优势在于,理论完善(与双曲面三维离子阱数学上等同),离子容量容量大、灵敏度高出三维离子阱10倍(理论上是200倍)。同一时期(199本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线性离子阱结构,其特征在于,所述线性离子阱结构至少包括:第一电极,用于连接强射频电压的正极;与所述第一电极围合形成离子运行空间且有开口的第二电极,用于连接强射频电压的负极或地;贴近所述第二电极外侧设置且有狭缝的第三电极,用于耦合辅助射频电压,其中,所述狭缝相对于所述开口设置。

【技术特征摘要】
1.一种线性离子阱结构,其特征在于,所述线性离子阱结构至少包括: 第一电极,用于连接强射频电压的正极; 与所述第一电极围合形成离子运行空间且有开口的第二电极,用于连接强射频电压的负极或地; 贴近所述第二电极外侧设置且有狭缝的第三电极,用于耦合辅助射频电压,其中,所述狭缝相对于所述开口设置。2.根据权利要求1所述的线性离子阱结构,其特征在于:第三电极呈平板状或弯折状。3.根据权利要求1或2所述的线性离子阱结构,其特征在于:第三电极黏...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐国宾杨芃原
申请(专利权)人:上海华质生物技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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