电子荷质比实验中光斑位移测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种电子荷质比实验中光斑位移测量装置，包括二维位移测量仪、光强移动探测器、第一电机和显示器；所述二维位移测量仪的输出端与显示器连接；二维位移测量仪具有X轴部和Y轴部；第一电机控制X轴部在Y轴部的导轨上移动。本实用新型专利技术有效地提高了对电偏转灵敏度、磁偏转灵敏度、地磁水平分量等测量的精度。通过使用光强探测器对光斑扫描避免肉眼观察的误差，同时使用更高精度的二维位移测量仪，提高位移测量的精确度。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光斑位移测量的装置，具体涉及一种电子荷质比实验中光斑位移测量装置，属于物理实验仪器的设计与制造的

技术介绍
电子荷质比实验已广泛用于现代高等教学当中，其中在电偏转灵敏度、磁偏转灵敏度、地磁水平分量测量等对光斑位移的测量精度不是很高。基于其位移精确测量是无法实施的。而目前采用的方法仅仅为在荧光屏前放置刻度板凭人眼观测。首先，人眼观测本身就带有一定的不确定性，其次，刻度板的精确只能达到毫米整数级。
技术实现思路
本技术主要解决的是在电子荷质比实验中对光斑位移的微小测量。有效地提高了对电偏转灵敏度、磁偏转灵敏度、地磁水平分量等测量的精度。同时可选择手动测量和电子自动测量两种方法。具体地，本技术提供了一种电子荷质比实验中光斑位移测量装置，其特征在于:包括二维位移测量仪、光强移动探测器、第一电机和显示器；二维位移测量仪包括X轴部、Y轴部、X轴位移测量单元和Y轴位移测量单元；X轴位移测量单元位于光强移动探测器上；Y轴位移测量单元位于X轴部上；Y轴部包括沿Y轴方向的相互平行的两个齿条；X轴部包括一个沿X轴方向的齿条；光强移动探测器安装在X轴部上，能够在X轴方向上移动，X轴位移测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子荷质比实验中光斑位移测量装置，其特征在于：包括二维位移测量仪、光强移动探测器、第一电机和显示器；二维位移测量仪包括X轴部、Y轴部、X轴位移测量单元和Y轴位移测量单元；X轴位移测量单元位于光强移动探测器上；Y轴位移测量单元位于X轴部上；Y轴部包括沿Y轴方向的相互平行的两个齿条；X轴部包括一个沿X轴方向的齿条；光强移动探测器安装在X轴部上，能够在X轴方向上移动，X轴位移测量单元获得光强移动探测器在X轴方向上的位移量，即X值；X轴部能够在Y轴部上沿Y轴方向移动，Y轴位移测量单元获得在Y轴方向上的位移量，即Y值；第一电机安装在X轴部上，用来控制X轴部在Y轴部的导轨上移动；X轴位移测量单元和Y轴...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高希宇，任远，杨北革，姚学武，
申请(专利权)人：山西省电力公司大同供电分公司，国家电网公司，
类型：实用新型
国别省市：