一种常压等离子体自由基清洗设备制造技术

一种常压等离子体自由基清洗设备，包括一台中频等离子体发生器、一台射频等离子体发生器、吸片装置、电源系统、移动机械臂、进气系统以及抽气泵。设备运行时，两台等离子体发生器同时工作，工作气体在流量计的控制下进入到两台等离子体发生器中，吸片装置固定在一维移动机械臂上，电源接通过后，等离子体发生器产生的自由基在气流的携带下喷射出来，吸片装置吸附着硅片，在机械臂的带动下，先从中频高压等离子体发生器喷口上方扫过，进行预清洗，然后再从射频等离子体发生器上方扫过，进行精细清洗，本实用新型专利技术可用于硅片光刻胶和有机污染物清洗或其他衬底表面的有机污染物的清洗。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种常压等离子体自由基清洗设备，包括一台中频等离子体发生器、一台射频等离子体发生器、吸片装置、电源系统、移动机械臂、进气系统以及抽气泵，其特征在于：设备同时采用一台中频等离子体发生器和一台射频等离子体发生器作为等离子体源，工作气体在流量计的控制下分别进入到两台等离子体发生器中，吸片装置固定在一维移动机械臂上，电源接通过后，两台等离子体发生器向上喷出自由基束流，吸片装置吸附着硅片，在机械臂的带动下，从等离子体发生器喷口的上方扫过，进行硅片去胶清洗，硅片与两台等离子体发生器喷口的距离均为0.5～2.5mm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：贾少霞，王守国，杨景华，赵玲利，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：实用新型
国别省市：