基板支架及其固定构件制造技术

本发明专利技术公开了一种研磨装置及其基板支架和固定构件。该基板支架应用于研磨装置上，其包括定盘及由研磨垫与制止件所形成的固定构件。研磨垫设置于定盘的表面上，其具有多个开孔，且这些开孔的位置对应于基板的尺寸。制止件则穿过研磨垫上的开孔而设置于定盘的表面上，并且这些制止件突出于研磨垫，从而在制止件之间形成一容置区域以设置基板。根据本发明专利技术，在制造过程中需要进行换线时，只需改变制止件的设置位置即可进行不同尺寸的基板的研磨，这有效地降低了制造过程的时间及成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种研磨装置，尤其涉及一种研磨装置的基板支架及其固定构件。
技术介绍
平面显示器，例如有机发光显示器(organic light emitting display；OLED)及液晶显示器(liquid crystal display；LCD)，已广泛地应用于计算机及通讯领域。玻璃基板为平面显示器的关键材料之一，其主要应用在平面显示器上的薄膜晶体管及彩色滤光片。由于平面显示器所使用的玻璃基板需要有较高的光洁度，因此，玻璃材料经由成型制造过程形成玻璃基板后，大多需再经过抛光、研磨等后续加工步骤。另外，彩色滤光片(color filter；CF)上的像素由具有染料的光致抗蚀剂形成，例如包括红色、绿色及蓝色；然而由于制造过程参数、机台设备等因素，光致抗蚀剂会形成不平坦的结构而影响显示面板的画质表现，因此在制造过程中一般需再经过研磨制造过程以平坦化彩色滤光片的光致抗蚀剂。传统的研磨方法是使用一外框将玻璃基板限制于框体内，以进行研磨。请参照图1A与图1B，传统研磨设备的基板支架是将定位框体130贴附于定盘110的表面上，而研磨垫(back pad)120位于定位框体130内，定位框体130的尺寸对应于欲研磨的玻璃基板140的尺寸，以将玻璃基板140限制于定位框体130内，进而进行玻璃基板140的加工制造过程。另一传统基板支架则在研磨垫120及定位框体130的外侧增设一抵挡构件150，以限制定位框体130的移动，如图2所示。在公知技术中，需使用定位框体将玻璃基板限制于框内以进行研磨；而实际上进行研磨时，此定位框体容易造成玻璃基板碰撞，而造成破片。另外，此定位框体为背胶式，当面积较大且贴附不佳时易造成渗水问题。并且，当欲进行研磨的玻璃基板的尺寸改变时，需全部更换基板支架或其上的定位框体，且更换操作既费时又费工。
技术实现思路
鉴于以上的问题，本专利技术提供一种研磨装置及其基板支架和固定构件，由此解决现有技术所揭露的易碰撞造成破片且换线不易的问题。本专利技术所揭示的基板支架应用于一研磨装置上，以吸附欲研磨的基板，并且该基板支架包括一定盘及一固定构件。该固定构件包括研磨垫与制止件。研磨垫设置于定盘的表面上，其具有多个开孔，且这些开孔的位置对应于基板的尺寸。制止件则穿过研磨垫上的开孔而设置于定盘的表面上，并且这些制止件突出于研磨垫，从而在制止件之间形成一容置区域以设置基板。其中，研磨垫可为一吸附式研磨垫，且可由具有高摩擦系数的材料制成。具体而言，根据本专利技术的一个技术方案，提供一种固定构件，用以吸附基板，包括研磨垫，其具有多个第一开孔，其中所述第一开孔的位置对应于该基板的尺寸；及多个制止件，其分别设置于所述第一开孔中，其中所述制止件突出于该研磨垫，且在所述制止件之间形成一容置区域以设置该基板。根据本专利技术的另一方案，提供一种基板支架，用以吸附一基板，包括定盘；研磨垫，其设置于该定盘的表面上，并且具有多个第一开孔，其中所述第一开孔的位置对应于该基板的尺寸；及多个制止件，其穿过所述第一开孔设置于该定盘的表面上，其中所述制止件突出于该研磨垫，以在所述制止件之间形成一容置区域以设置该基板。本专利技术的有益技术效果在于一旦在制造过程中需要进行换线，只需改变制止件的设置位置即可进行不同尺寸的基板的研磨，有效地降低了制造过程的时间及成本。有关本专利技术的特征与实例，现配合附图对优选实施例详细说明如下。附图说明图1A为传统研磨设备的基板支架的截面图；图1B为传统研磨设备的基板支架的立体分解图； 图2为另一传统研磨设备的基板支架的截面图；图3A为根据本专利技术的基板支架的第一实施例的立体分解图；图3B为根据本专利技术的基板支架的第二实施例的俯视图；图4为根据本专利技术的基板支架的第三实施例的俯视图；以及图5为根据本专利技术的基板支架的第四实施例的俯视图。其中，附图标记说明如下110定盘 120研磨垫130定位框体140玻璃基板 150抵挡构件 210定盘220研磨垫222开孔 230制止件240基板具体实施方式以下举出具体实施例以详细说明本专利技术的内容，并以附图作为辅助说明。说明书中提及的附图标记请参照附图中的附图标记。参照图3A，其为根据本专利技术的基板支架的第一实施例的立体分解图，此基板支架可应用于一研磨装置上，以在研磨装置进行基板240(例如玻璃基板、晶片等)研磨时，吸附住欲研磨的基板240。此基板支架包括一定盘210及一固定构件。且固定构件包括研磨垫220与制止件230。在这里，研磨垫220的一表面贴附于定盘210的表面上，且在研磨垫220上与基板240的尺寸相对应地设置有多个开孔222。制止件230则分别穿过开孔222而设置于定盘210的表面上，并且制止件230突出于研磨垫220，以在制止件230之间形成一容置区域。在进行基板240研磨时，则可将欲研磨的基板240设置于容置区域(即，将欲研磨的基板240限制在制止件230之间)，使其吸附于研磨垫220的另一表面。举例来说，参照图3B，当欲研磨一矩形基板240时，研磨垫220上可具有大致上排列于矩形四周的孔洞(图中未示出)，制止件230则分别经由研磨垫220上的孔洞而设置于定盘(图中未示出)上，由于制止件230高于研磨垫220，因此可在制止件230之间形成与欲研磨的基板240的尺寸相对应的容置区域，而欲研磨的基板240即可设置于此容置区域上，以利用制止件230限制住欲研磨的基板240的位置。研磨垫可为一吸附式研磨垫，并且其可由具有高摩擦系数的材料制成，在一优选实施例中，研磨垫的摩擦系数大于1.3；此外，为发挥此材料的吸附特性，在研磨基板前可先将研磨垫上的水分去除，去除方式例如为刮刀刮干或以气体吹干。在这里，制止件230可设计为一矩形柱体(如图3B所示)，此外也可设计为一L形柱体(如图4所示)。当制止件230为矩形柱体时，可分别在欲研磨的基板240的四周设置一个或多个制止件230。而当制止件230为L形柱体时，可利用两个制止件230分别设置于欲研磨的基板240的对角，以达到控制欲研磨的基板240的位置的效果；不过也可在欲研磨的基板240的四脚均设置一个制止件230，来控制欲研磨的基板240的位置。其中这些制止件可由塑料材料制成，优选由耐磨且不易变形的材料制成，例如PC(聚碳酸酯)或PEEK(聚醚醚酮)等材料。并且，这些制止件的高度可以大于等于研磨垫高度加上基板高度，且优选高度近似等于研磨垫高度加上基板高度。在这里，虽然仅以矩形基板进行详细说明，但也可运用于各种形状的基板，此时只需要与基板的形状、尺寸相配合地设置研磨垫上的开孔，以在制止件设置于开孔内时，可形成对应于基板的形状、尺寸的容置区域。此外，参照图3A与图5，在研磨垫220上的开孔222可对应于多种尺寸的基板240而设置；换句话说，研磨垫220可配合多种尺寸的基板240，先行设置与多种尺寸的基板相对应的开孔222。举例来说，参考图3A，为方便说明，将外侧开孔222称为第一开孔，而内侧开孔222称为第二开孔；当制止件230分别穿过第一开孔而设置于定盘210的表面上时，所形成的容置区域则可供一种尺寸的基板设置于其上；而当制止件230分别穿过第二开孔而设置于定盘210的表面上时，所形成的容置区域则可供另一种尺寸的基板设置于其上。如此一来，在制造本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种固定构件，用以吸附基板，包括：研磨垫，其具有多个第一开孔，其中所述第一开孔的位置对应于该基板的尺寸；及多个制止件，其分别设置于所述第一开孔中，其中所述制止件突出于该研磨垫，且在所述制止件之间形成一容置区域以设置该基板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏仲立，林育民，周安正，杜志谦，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]